特許
J-GLOBAL ID：201603004049106978

ウェハキャリア、システム、及びウェハ処理方法

発明者：
ミトロヴィッチ,ボヤン

ミトロヴィッチ,ボヤン について

, 
ウェイ,グアンフア

ウェイ,グアンフア について

, 
アーマー,エリック・エイ

アーマー,エリック・エイ について

, 
パランジュペ,アジット

パランジュペ,アジット について


出願人/特許権者：
ビーコ・インストゥルメンツ・インコーポレイテッド

ビーコ・インストゥルメンツ・インコーポレイテッド について


代理人 (10件)： 奥山 尚一 ,  有原 幸一 ,  松島 鉄男 ,  河村 英文 ,  中村 綾子 ,  森本 聡二 ,  田中 祐 ,  徳本 浩一 ,  児玉 真衣 ,  水島 亜希子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-084390
公開番号（公開出願番号）：特開2016-195254
出願日： 2016年04月20日
公開日（公表日）： 2016年11月17日
要約：
【課題】軸を中心に回転する複数のウェハを保持するウェハキャリアにおいて、質量輸送律速(mass-transport-limited)成長条件下でウェハ上に成長する層の厚さを均一にするための均一な境界層の厚さを持つガス流を形成する。【解決手段】ウェハキャリア40を包囲するリング52を設ける。キャリアの上面64に向けられた処理ガスは、軸から離れて外側にウェハキャリアにわたって、かつリングを越えて流れ、リングの外側を下流に進む。外側に流れるガスは、ウェハキャリア及びリングにわたって境界層Bを形成する。リングは、ウェハキャリアにわたって実質的に均一な厚さの境界層を維持するのに役立ち、それによりウェハ上に成長する層の厚さを均一にする。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
円形上面と、該上面の境界を画す周囲面と、ウェハ処理反応器のスピンドルを前記上面及び前記周囲面が該スピンドルと同心であるように係合するようになっている取付具とを有する本体を備え、該本体は、各々がウェハを保持するようになっている複数のポケットを更に画定し、該ポケットは、ウェハを、該ウェハの一部が前記周囲面の約5mm以内に位置するように保持するようになっている外側ポケットを含む、ウェハキャリア。
IPC (3件)：
H01L 21/683 ,  H01L 21/205 ,  C23C 16/458
FI (3件)：
H01L21/68 N ,  H01L21/205 ,  C23C16/458
Fターム (47件)：
4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA04 ,  4K030EA11 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030GA06 ,  4K030GA12 ,  4K030KA04 ,  4K030KA23 ,  4K030KA45 ,  4K030KA46 ,  4K030LA14 ,  4K030LA15 ,  5F045AA04 ,  5F045AB14 ,  5F045AC07 ,  5F045AC12 ,  5F045AD14 ,  5F045AE01 ,  5F045AF09 ,  5F045BB02 ,  5F045CA09 ,  5F045DP15 ,  5F045DP27 ,  5F045DQ10 ,  5F045EF14 ,  5F045EF15 ,  5F045EK07 ,  5F045EM02 ,  5F131AA02 ,  5F131BA04 ,  5F131BA19 ,  5F131CA06 ,  5F131DA33 ,  5F131EA14 ,  5F131EA24 ,  5F131EB67 ,  5F131EB75 ,  5F131EB81 ,  5F131GA05 ,  5F131GA26 ,  5F131GA33 ,  5F131GA42 ,  5F131GA52 ,  5F131GA55 ,  5F131GA66
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM