露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：志賀正武 , 高橋詔男
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-077884
公開番号（公開出願番号）：特開2013-207258
特許番号：特許第5994333号
出願日： 2012年03月29日
公開日（公表日）： 2013年10月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板の表面の一部を覆う液浸空間の液体を介して前記基板に露光光を照射することによって、前記基板上の複数のショット領域を順次露光する露光装置であって、所定の投影領域に前記露光光を照射する投影光学系と、前記基板を保持し移動可能な基板ステージと、前記液浸空間が通過可能で前記基板の外周の外側の領域を含むダミーショット領域を設定するダミーショット領域設定部と、を備え、前記基板ステージの移動は、前記ダミーショット領域が、前記投影領域を通過するように制御され、前記ダミーショット領域が前記投影領域を通過する際、前記ダミーショット領域に対しては、デバイス製造のための露光光照射が行われない露光装置。

IPC (2件)：