特許
J-GLOBAL ID：201603004399955170

制動機構および制動機構を備えた軸受装置

発明者：
平山 琢哉

平山 琢哉 について


出願人/特許権者：
オイレス工業株式会社

オイレス工業株式会社 について


代理人 (1件)： 大関 光弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-136114
公開番号（公開出願番号）：特開2014-003762
特許番号：特許第6026792号
出願日： 2012年06月15日
公開日（公表日）： 2014年01月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ラジアル軸受によってラジアル方向の荷重が支持された回転体の回転を制動する制動機構であって、 磁力線を発生する磁力線発生手段と、 前記回転体に設けられ、前記回転体の回転により前記磁力線発生手段に対して相対的に回転する、非磁性良導体あるいは弱磁性良導体で形成された渦電流発生部と、 前記磁力線発生手段により発生された磁力線の前記渦電流発生部への照射を制御する照射制御手段と、を備え、 前記渦電流発生部は、 前記回転体と回転軸を一致させて当該回転体の外周面から張り出した円板部と、 前記円板部の一方の端面から前記回転体のスラスト方向に向けて、当該回転体と回転軸を一致させて同心円状に設けられた複数の円筒部と、を有し、 前記磁力線発生手段は、 前記円筒部毎に設けられた複数の磁石を有し、 前記照射制御手段は、 前記複数の磁石を個別に前記回転体のスラスト方向に移動して、前記磁石毎に、当該磁石に対応する前記円筒部と当該円筒部の内側に位置して当該円筒部と隣り合う他の前記円筒部あるいは前記回転体との間に、当該磁石を出し入れする ことを特徴とする制動機構。
IPC (4件)：
H02K 49/10 ( 200 6.01) ,  F16C 32/06 ( 200 6.01) ,  B65G 13/075 ( 200 6.01) ,  H02P 15/00 ( 200 6.01)
FI (5件)：
H02K 49/10 B ,  F16C 32/06 Z ,  B65G 13/075 ,  H02P 15/00 G ,  F16C 32/06 C
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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