特許
J-GLOBAL ID：201603004640946403

パターン形成方法、パターン形成装置、及びコンピュータ可読記憶媒体

発明者：
村松 誠

村松 誠 について

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北野 高広

北野 高広 について

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冨田 忠利

冨田 忠利 について

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田内 啓士

田内 啓士 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (4件)： 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司 ,  扇田 尚紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-077116
公開番号（公開出願番号）：特開2016-165726
出願日： 2016年04月07日
公開日（公表日）： 2016年09月15日
要約：
【課題】ブロック共重合体におけるAポリマー領域とBポリマー領域との有機溶剤に対する溶解度比を向上させる。【解決手段】少なくとも2種類のポリマーを含むブロック共重合体の膜を基板に形成するステップと、前記ブロック共重合体の膜を加熱するステップと、加熱された前記ブロック共重合体の膜に対して不活性ガスの雰囲気の下で紫外光を照射するステップと、紫外光が照射された前記ブロック共重合体の膜に有機溶剤を供給するステップとを含むパターン形成方法により、上記の課題が達成される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
少なくとも2種類のポリマーを含むブロック共重合体の膜を基板に形成するステップと、 前記ブロック共重合体の膜を加熱するステップと、 加熱された前記ブロック共重合体の膜に対してピーク波長が200nm以下である紫外光を照射するステップと、 前記紫外光が照射された前記ブロック共重合体の膜に有機溶剤を供給するステップと、 を含むパターン形成方法。
IPC (4件)：
B05D 3/06 ,  H01L 21/027 ,  B05D 7/24 ,  B05C 9/14
FI (6件)：
B05D3/06 102C ,  H01L21/30 502D ,  H01L21/30 564C ,  B05D3/06 102A ,  B05D7/24 302F ,  B05C9/14
Fターム (26件)：
4D075BB20Z ,  4D075BB24Z ,  4D075BB46Z ,  4D075BB56Z ,  4D075BB68Z ,  4D075DA07 ,  4D075DC22 ,  4D075EB11 ,  4D075EB13 ,  4D075EB14 ,  4D075EB22 ,  4D075EB39 ,  4D075EB42 ,  4D075EC30 ,  4F042AA07 ,  4F042AB00 ,  4F042BA16 ,  4F042BA22 ,  4F042DB20 ,  4F042DB42 ,  5F146AA28 ,  5F146BA10 ,  5F146CA01 ,  5F146CA02 ,  5F146DA27 ,  5F146JA04
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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