特許
J-GLOBAL ID：201603004826281053
基板処理装置および基板処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
勝沼 宏仁
, 永井 浩之
, 磯貝 克臣
, 森 秀行
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-288240
公開番号（公開出願番号）：特開2014-130931
特許番号：特許第5996424号
出願日： 2012年12月28日
公開日（公表日）： 2014年07月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された前記基板のパターンが形成された第1面に、純水よりも揮発性が高い有機溶剤を供給する有機溶剤吐出部と、
前記基板保持部に保持された前記基板の前記第1面と反対側の第2面に、前記基板を加熱するための、加熱された温調液を供給する温調液吐出部と、
前記温調液吐出部に前記温調液を供給する温調液供給機構と、
前記基板に供給された後に前記基板から離脱した前記有機溶剤および前記温調液を回収して前記温調液供給機構に戻す戻しラインと、
を備え、
前記温調液供給機構は、前記戻しラインを介して前記温調液供給機構に戻された前記有機溶剤および前記温調液を含む混合液を、温調液として前記温調液吐出部に送る混合液ラインを含み、
前記温調液供給機構内に存在する前記温調液中に含まれる前記有機溶剤を除去する有機溶剤除去機構をさらに備えた、基板処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
前のページに戻る
