特許
J-GLOBAL ID:201603004929006433

紫外線照射装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 岩池 満 ,  加藤 竜太
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-098419
公開番号(公開出願番号):特開2013-226473
特許番号:特許第6035841号
出願日: 2012年04月24日
公開日(公表日): 2013年11月07日
請求項(抜粋):
【請求項1】 被処理流体の入口および出口が設けられた容器と、 この容器内に配置され、紫外線透過性を有する石英ガラス製の保護管と、 この保護管内に挿入された紫外線ランプとを備え、 前記保護管の表面に凹凸面からなる反射防止構造を形成し、 前記反射防止構造は、シリカ粒子が保護管に接着して形成される凸部が前記保護管上に配列されて形成されるモスアイ構造であって、 前記モスアイ構造は、前記凸部の高さが300〜50nmであり、 前記凸部の周期が300〜100nmであり、 前記凸部の頂部から底部に至る屈折率が連続的に変化するものである ことを特徴とする紫外線照射装置。
IPC (2件):
C02F 1/32 ( 200 6.01) ,  C03C 17/23 ( 200 6.01)
FI (2件):
C02F 1/32 ,  C03C 17/23
引用特許:
出願人引用 (5件)
  • 紫外線を利用した処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-207237   出願人:株式会社日本フォトサイエンス
  • 紫外線照射装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2003-043906   出願人:千代田工販株式会社
  • 無反射周期構造体及びその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2004-214347   出願人:独立行政法人産業技術総合研究所
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審査官引用 (5件)
  • 紫外線を利用した処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-207237   出願人:株式会社日本フォトサイエンス
  • 紫外線照射装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2003-043906   出願人:千代田工販株式会社
  • 無反射周期構造体及びその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2004-214347   出願人:独立行政法人産業技術総合研究所
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