特許
J-GLOBAL ID:201603005031905748
半導体装置の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人サクラ国際特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-186101
公開番号(公開出願番号):特開2015-053419
特許番号:特許第6017388号
出願日: 2013年09月09日
公開日(公表日): 2015年03月19日
請求項(抜粋):
【請求項1】 半導体ウェーハをテープに貼り付ける工程と、
リングを前記半導体ウェーハの周囲に位置する部分に貼り付ける工程と、
前記半導体ウェーハと前記リングが貼り付けられたテープを、前記半導体ウェーハが貼り付けられた面側が接するようにステージに置く工程と、
前記リングに対して前記ステージを相対的に上昇させる工程と、
上昇させた前記ステージに前記半導体ウェーハの外周領域を除く中央領域を吸着固定する工程と、
前記中央領域を吸着固定した後に前記リングに対して前記ステージを相対的にさらに上昇させる工程と
を具備する半導体装置の製造方法。
IPC (2件):
H01L 21/683 ( 200 6.01)
, H01L 21/301 ( 200 6.01)
FI (2件):
H01L 21/68 N
, H01L 21/78 W
引用特許:
審査官引用 (4件)
-
特許第5085452号
-
特開昭58-147129
-
特開平4-177860
前のページに戻る