特許

J-GLOBAL ID：201603005292555914

以降の加工時に高精度位置合わせを得るためのマルチインクの印刷

発明者： ミカイル エル.ペクロフスキー ,  アン エム.ギルマン ,  ダニエル ジェイ.サイス
出願人/特許権者： スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー
代理人 (6件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  高橋 正俊 ,  胡田 尚則 ,  出野 知
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-549467
公開番号（公開出願番号）：特表2016-509528
出願日： 2013年12月11日
公開日（公表日）： 2016年03月31日
要約：

マルチインクを印刷ロール上に同時に堆積させることにより、ロールツーロール法において高精度位置合わせを得る方法。これらのインクの1つは基材上に基準マークのパターンを印刷し、別のインクは、所定のパターンが基準マークのパターンに対して予測可能な空間的な関係を有するように、同じ基材上に所定のパターンを印刷する。結果として、所定のパターンを形成するインクが視認不能であっても、又は効果的に視認不能であるほどに基材と低コントラストを有するものあったとしても、又は更に以降の加工工程で溶失したものであったとしても、基準マークのパターンを参照することにより所定のパターンがどこにあるかを知ることが依然として可能である。

請求項（抜粋）：

その上に所定のパターンを有する基材を提供する方法であって: 印刷ロール、第1のインクディスペンサー、及び第2のインクディスペンサーを準備する工程であって、前記第1のインクディスペンサー及び前記第2のインクディスペンサーは、第1のインク及び第2のインクを前記印刷ロール上にそれぞれ別々の第1及び第2の区域において分注するように配置される、工程と、 選択された溶剤に可溶性の前記第1のインクを前記第1の区域の中に前記第1のインクディスペンサーにより分注し、前記選択された溶剤に不溶性である前記第2のインクを前記第2の区域の中に前記第2のインクディスペンサーにより分注する工程と、 前記基材を前記印刷ロールに対して前進させて、基準マークを前記基材上に前記第2のインクにより印刷し、併せて前記所定のパターンを前記基材上に前記第1のインクにより同時に印刷する工程と、 導電性材料の層を前記基材上に前記所定のパターンにわたってスパッタリングする工程と、 前記基材を前記選択された溶剤によりすすいで、前記第1のインク及び前記所定のパターンを除去し、併せて前記基準マークを前記基材上に残す工程とを含む、方法。

IPC (9件)：

B05D 1/28 ,  B41M 1/20 ,  B41M 1/34 ,  B41M 1/30 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/12 ,  B05D 3/10 ,  B05D 5/12 ,  B05D 1/32

FI (9件)：

B05D1/28 ,  B41M1/20 ,  B41M1/34 ,  B41M1/30 B ,  H05K3/00 P ,  H05K3/12 610A ,  B05D3/10 E ,  B05D5/12 B ,  B05D1/32 A

Fターム (56件)：

2H113AA01 ,  2H113AA04 ,  2H113BA01 ,  2H113BA03 ,  2H113BA05 ,  2H113BB02 ,  2H113BB08 ,  2H113BB09 ,  2H113BB22 ,  2H113BB32 ,  2H113BC10 ,  2H113CA17 ,  2H113DA04 ,  2H113DA07 ,  2H113DA57 ,  2H113DA64 ,  2H113EA06 ,  2H113FA35 ,  2H113FA38 ,  2H113FA43 ,  2H113FA48 ,  2H113FA54 ,  4D075AC21 ,  4D075AC25 ,  4D075AC45 ,  4D075AC72 ,  4D075AC84 ,  4D075AC88 ,  4D075AC92 ,  4D075AC93 ,  4D075AD02 ,  4D075BB20Y ,  4D075BB46Z ,  4D075BB65Y ,  4D075BB85Z ,  4D075CA22 ,  4D075CB13 ,  4D075DA04 ,  4D075DB48 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075EA05 ,  4D075EA21 ,  4D075EB23 ,  4D075EB43 ,  4D075EC30 ,  5E343AA03 ,  5E343AA12 ,  5E343AA33 ,  5E343BB22 ,  5E343BB72 ,  5E343DD12 ,  5E343EE06 ,  5E343EE13 ,  5E343GG08 ,  5E343GG20

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 透明導電性基体の連続製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-133659   出願人：ユニチカ株式会社, 株式会社キョーテック
• 印刷塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-072074   出願人：凸版印刷株式会社
• 特開昭60-024990
  
• 特開昭63-142324
  

審査官引用 (4件)

• 透明導電性基体の連続製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-133659   出願人：ユニチカ株式会社, 株式会社キョーテック
• 印刷塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-072074   出願人：凸版印刷株式会社
• 特開昭60-024990
  
• 特開昭63-142324