特許
J-GLOBAL ID:201603005392697961

半導体装置及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 家入 健
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-063809
公開番号(公開出願番号):特開2014-192202
特許番号:特許第5939185号
出願日: 2013年03月26日
公開日(公表日): 2014年10月06日
請求項(抜粋):
【請求項1】 リードフレームと、 前記リードフレームの一部に搭載される半導体素子と、 前記半導体素子と前記リードフレームとを少なくとも接合するZn-Al系はんだと、 前記半導体素子を封止する封止樹脂と、 前記リードフレームの表面のうち前記Zn-Al系はんだとの接合面に形成され、Cu,Au,Agのうちの何れかの金属からなる第1めっき層と、 前記リードフレームの表面のうち前記封止樹脂との密着面にのみ形成され、Ni,Al及びそれらの酸化物のうちの何れかの金属からなる第2めっき層と、を備えた半導体装置。
IPC (1件):
H01L 23/48 ( 200 6.01)
FI (2件):
H01L 23/48 K ,  H01L 23/48 G
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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