基板処理装置および基板処理方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福島祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-153911
公開番号（公開出願番号）：特開2016-032030
出願日： 2014年07月29日
公開日（公表日）： 2016年03月07日
要約：

【課題】基板上のシリコン酸化膜およびシリコン窒化膜のうちシリコン窒化膜を選択的にエッチングする処理を正確に行うことが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】新液供給装置8は、生成用タンク80内のリン酸水溶液を循環させる循環系を有する。循環系にはフィルタ82およびフィルタ82をバイパスするバイパス管86aが設けられる。循環系は、リン酸水溶液がバイパス管86aを通って循環する第1の状態およびリン酸水溶液がフィルタ82を通って循環する第2の状態に切り替え可能に構成される。シリコン含有液が生成用タンク80に供給される際には、循環系が第1の状態に切り替えられる。その後、シリコン含有液のシリコン粒子がリン酸水溶液中に均一に分散されたことが判定されると、循環系が第2の状態に切り替えられる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

シリコンおよびリン酸を含む処理液を生成する処理液生成部と、前記処理液生成部により生成された処理液中の不純物を除去するように配置されるフィルタと、基板上のシリコン酸化物およびシリコン窒化物のうちシリコン窒化物を選択的に除去するために、前記フィルタにより不純物が除去された処理液を基板に供給する処理ユニットとを備え、前記処理液生成部は、リン酸を含む第1の溶液を貯留する生成用タンクと、前記生成用タンクにシリコン粒子を含む第2の溶液を供給して第1の溶液と混合することにより前記処理液を生成する溶液供給系と、前記フィルタをバイパスするように前記処理液を流すバイパス経路と、前記生成用タンク内の処理液を前記バイパス経路を通して循環させる第1の状態と前記生成用タンク内の処理液を前記フィルタを通して循環させる第2の状態とに切り替え可能な循環系と、前記循環系により循環される処理液中のシリコン粒子が予め定められた程度まで分散されたか否かを判定する分散状態判定部と、前記溶液供給系による前記生成用タンクへの第2の溶液の供給後に前記循環系を前記第1の状態に切り替え、前記分散状態判定部によりシリコン粒子が前記予め定められた程度まで分散されたと判定された場合に前記循環系を前記第2の状態に切り替える切り替え部とを含む、基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/306 , H01L 21/304 , H01L 21/308

FI (3件)：

H01L21/306 R , H01L21/304 648F , H01L21/308 E

Fターム (20件)：

5F043AA35 , 5F043BB23 , 5F043DD13 , 5F043EE08 , 5F043EE22 , 5F043EE23 , 5F043EE24 , 5F043EE25 , 5F157AA76 , 5F157AB02 , 5F157AB33 , 5F157BB11 , 5F157BB66 , 5F157BC13 , 5F157CB01 , 5F157CD33 , 5F157CD34 , 5F157CF34 , 5F157CF74 , 5F157DC86

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