特許
J-GLOBAL ID：201603005642843578
無電解メッキ用前処理液および無電解メッキ方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
宮崎 悟
, 後藤 圭次
, 船越 巧子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-146991
公開番号（公開出願番号）：特開2016-023323
出願日： 2014年07月17日
公開日（公表日）： 2016年02月08日
要約：
【課題】非導電性物質表面に微細な回路形成および広範囲に均一な膜厚の薄膜形成を可能にする前処理液およびその前処理液を用いた無電解メッキ方法を提供する。【解決手段】無電解メッキ用前処理液は、貴金属コロイドナノ粒子、糖アルコールおよび水からなり、コロイドナノ粒子は、金(Au)、白金(Pt)またはパラジウム(Pd)のいずれかであり、コロイドナノ粒子の平均粒径が5〜80ナノメートルであり、コロイドナノ粒子は金属質量として前処理液中に0.01〜10g/L含有し、糖アルコールは、トリトール、テトリトール、ペンチトール、ヘキシトール、ヘプチトール、オクチトール、イノシトール、クエルシトール、ペンタエリスリトールからなる群のうちの少なくとも1種以上を合計で前処理液中に0.01〜200g/L含有している。また、無電解メッキ方法は、前処理剤を用いて無電解メッキ浴にて無電解メッキする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
貴金属コロイドナノ粒子、糖アルコールおよび水とからなる無電解メッキ用前処理液において、当該コロイドナノ粒子は、金(Au)、白金(Pt)またはパラジウム(Pd)のいずれかであり、当該コロイドナノ粒子の平均粒径が5〜80ナノメートルであり、当該コロイドナノ粒子は金属質量として前処理液中に0.01〜10g/L含有し、当該糖アルコールは、トリトール、テトリトール、ペンチトール、ヘキシトール、ヘプチトール、オクチトール、イノシトール、クエルシトール、ペンタエリスリトールからなる群のうちの少なくとも1種以上を合計で前処理液中に0.01〜200g/L含有し、残部が水であることを特徴とする無電解メッキ用前処理液。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (10件)：
4K022AA05
, 4K022BA03
, 4K022BA14
, 4K022BA18
, 4K022CA06
, 4K022CA19
, 4K022CA21
, 4K022CA22
, 4K022DA01
, 4K022DB03
