特許
J-GLOBAL ID：201603005938329160
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
井上 学
, 戸田 裕二
, 岩崎 重美
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-184847
公開番号（公開出願番号）：特開2014-044976
特許番号：特許第5841917号
出願日： 2012年08月24日
公開日（公表日）： 2014年03月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 試料がプラズマ処理される真空容器と、前記真空容器内にプラズマを生成するための第1の高周波電力を供給する第1の高周波電源と、前記真空容器内に配置され試料を載置する試料台と、前記試料台に第2の高周波電力を供給する第2の高周波電源と、デジタル信号をアナログ信号に変換するD/Aコンバータと、アナログ信号をデジタル信号に変換するA/Dコンバータとを備えるプラズマ処理装置において、
前記D/Aコンバータは、前記第1の高周波電力を時間変調するための予め設定されたパラメータを前記予め設定されたパラメータに対応する前記第1の制御範囲の値である第1のアナログ値と前記予め設定されたパラメータに対応し前記第1の制御範囲より制御範囲が広い前記第2の制御範囲の値である第2のアナログ値に変換し、
前記A/Dコンバータは、前記D/Aコンバータより送信された前記第1のアナログ値と前記第2のアナログ値とをそれぞれ第1のデジタル値と第2のデジタル値に変換し、
前記第1の制御範囲または前記第2の制御範囲を選択するための信号に基づいて前記第1のデジタル値または前記第2のデジタル値を選択する信号処理部と、
前記信号処理部により選択された第1のデジタル値または第2のデジタル値に基づいて前記第1の高周波電力を時間変調するためのパルス波形を発生させるパルス発生器とをさらに備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, H05H 1/46 ( 200 6.01)
H01L 21/302 101 D
, H05H 1/46 B
