特許
J-GLOBAL ID:201603006101098850
気相成長装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
石川 壽彦
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-151967
公開番号(公開出願番号):特開2014-017290
特許番号:特許第5997952号
出願日: 2012年07月06日
公開日(公表日): 2014年01月30日
請求項(抜粋):
【請求項1】 チャンバ内に回転可能に設置されると共に、薄膜を堆積させる基板が自転可能に載置される複数の基板載置部を有するサセプタであって、内周部にサセプタを回転させるための回転軸を挿入する開口部を有するドーナツ状の形状をしてなり、外周部の周縁部に径方向に延びる切欠きであって丸穴部を設けた切欠きを複数有するサセプタと、
該サセプタの上面に設置されたサセプタカバーと、
前記サセプタの下方に設けられ、前記丸穴部に挿通可能で昇降可能な突き上げ棒を有する突き上げ機構とを有し、
前記突き上げ棒によって、前記サセプタカバーを突き上げることができるようにしたことを特徴とする気相成長装置。
IPC (4件):
H01L 21/683 ( 200 6.01)
, H01L 21/205 ( 200 6.01)
, H01L 21/31 ( 200 6.01)
, C23C 16/458 ( 200 6.01)
FI (4件):
H01L 21/68 N
, H01L 21/205
, H01L 21/31 B
, C23C 16/458
引用特許:
出願人引用 (6件)
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特開昭59-220917
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特開昭59-151418
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気相成長方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-051574
出願人:大陽日酸株式会社
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気相成長方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-122936
出願人:大陽日酸株式会社
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端子電極部材
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-185069
出願人:京セラ株式会社
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基板載置台及び基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2009-010282
出願人:東京エレクトロン株式会社
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審査官引用 (6件)
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特開昭59-220917
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特開昭59-151418
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気相成長方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-051574
出願人:大陽日酸株式会社
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気相成長方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-122936
出願人:大陽日酸株式会社
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端子電極部材
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-185069
出願人:京セラ株式会社
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基板載置台及び基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2009-010282
出願人:東京エレクトロン株式会社
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