EUVミラー及びEUVミラーを備える光学システム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：杉村憲司 , 結城仁美 , 神紘一郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-552015
公開番号（公開出願番号）：特表2016-504631
出願日： 2013年12月06日
公開日（公表日）： 2016年02月12日
要約：

本発明は、基板と、前記基板上に適用された多層構成を備え、該多層構成は極端紫外波長域(EUV)からの波長λを有する放射に対する反射効果を有し、且つ、高屈折率層材料及び低屈折率層材料を含む交互層の層ペアを複数有するEUVミラーに関するものである。前記多層構成は、前記多層構成の入射側付近に配置され、第一周期厚P1を有する、第一の数N1>1の第一層ペアを含む周期的な第一層グループ(LG1)と、前記第一層グループと前記基板との間に配置されており、第二周期厚P2を有する、第二の数N2>1の第二層ペアを含む周期的な第二層グループ(LG2)と、前記第一層グループ及び前記第二層グループの間に配置された、第三の数N3の第三層ペアを含む第三層グループ(LG3)と、を有する。前記第一の数N1は前記第二の数N2よりも大きい。前記第三層グループは、平均周期厚PM=(P1+P2)/2から周期厚差ΔPだけ異なる平均第三周期厚P3を有し、前記周期厚差ΔPは、1/4波長層の光学層厚(λ/4)と、第三の数N3及びcos(AOIM)の積との商に略対応し、ここで、AOIMは、多層構成が平均設計入射角であり、条件ΔP=x×(λ/(N3cos(AOIM)))が周期厚差ΔPについて成立し、条件0.2≦x≦0.35が成立する【選択図】図1

請求項（抜粋）：

EUVミラーであって、基板、及び前記基板上に適用された多層構成を備え、該多層構成は極端紫外波長域(EUV)からの波長λを有する放射に対する反射効果を有し、且つ、高屈折率層材料及び低屈折率層材料を含む交互層の層ペアを複数有し、さらに、前記多層構成は、前記多層構成の入射側付近に配置され、第一周期厚P1を有する、第一の数N1>1の第一層ペアを含む周期的な第一層グループ(LG1)と、前記第一層グループと前記基板との間に配置されており、第二周期厚P2を有する、第二の数N2>1の第二層ペアを含む周期的な第二層グループ(LG2)と、前記第一層グループ及び前記第二層グループの間に配置された、第三の数N3の第三層ペアを含む第三層グループ(LG3)と、を有し、前記第一の数N1は前記第二の数N2よりも大きく、さらに、前記第三層グループは、平均周期厚PM=(P1+P2)/2から周期厚差ΔPだけ異なる平均第三周期厚P3を有し、前記周期厚差ΔPは、1/4波長層の光学層厚(λ/4)と、第三の数N3及びcos(AOIM)の積との商に略対応し、ここで、AOIMは、多層構成の平均設計入射角であり、条件ΔP=x×(λ/(N3cos(AOIM)))が前記周期厚差ΔPについて成立し、条件0.2≦x≦0.35が成立することを特徴とする、 EUVミラー。

IPC (6件)：

G03F 7/20 , G21K 1/06 , G02B 5/08 , G02B 5/10 , G02B 19/00 , G02B 17/08

FI (7件)：

G03F7/20 503 , G03F7/20 521 , G21K1/06 B , G02B5/08 A , G02B5/10 , G02B19/00 , G02B17/08 Z

Fターム (25件)：

2H042DA08 , 2H042DB02 , 2H042DC11 , 2H042DE00 , 2H042DE04 , 2H052BA03 , 2H052BA09 , 2H052BA12 , 2H087KA21 , 2H087LA01 , 2H087NA04 , 2H087TA02 , 2H197AA10 , 2H197BA02 , 2H197BA03 , 2H197CA10 , 2H197CB16 , 2H197CC16 , 2H197GA01 , 2H197GA03 , 2H197GA05 , 2H197GA10 , 2H197GA11 , 2H197GA12 , 2H197GA13

引用特許：

出願人引用 (2件)

反射度を高めた多層極端紫外線ミラー
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-194831 出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
特許第6449086号

審査官引用 (2件)

反射度を高めた多層極端紫外線ミラー
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-194831 出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
特許第6449086号

引用文献：

出願人引用 (1件)

EUV multilayer mirrors with tailored spectral reflectivity

審査官引用 (1件)

EUV multilayer mirrors with tailored spectral reflectivity

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