特許

J-GLOBAL ID：201603006304157967

微細凹凸構造の製造方法及び基板

発明者： 遠藤 洋史 ,  河合 武司 ,  辻 珠実
出願人/特許権者： 学校法人東京理科大学
代理人 (1件)： 正林 真之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-174780
公開番号（公開出願番号）：特開2016-050978
出願日： 2014年08月29日
公開日（公表日）： 2016年04月11日
要約：

【課題】凹凸の周期や振幅が異なる微細凹凸構造を基板上に形成する微細凹凸構造の製造方法、及び、凹凸の周期や振幅が異なる微細凹凸構造を表面に有する基板を提供する。【解決手段】伸縮可能な基板に対して、上記基板の部位によりエネルギー照射量又は薄膜材料付着量を変えてエネルギー照射又は薄膜材料付着を行うことにより、上記エネルギー照射量又は上記薄膜材料付着量に応じた表層を形成する表層形成工程と、上記表層に側方応力を加えることにより、凹凸の振幅及び/又は周期が異なる微細凹凸構造を上記基板の表面に形成する微細凹凸構造形成工程と、を有する微細凹凸構造の製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

伸縮可能な基板に対して、前記基板の部位によりエネルギー照射量又は薄膜材料付着量を変えてエネルギー照射又は薄膜材料付着を行うことにより、前記エネルギー照射量又は前記薄膜材料付着量に応じた表層を形成する表層形成工程と、 前記表層に側方応力を加えることにより、凹凸の振幅及び/又は周期が異なる微細凹凸構造を前記基板の表面に形成する微細凹凸構造形成工程と、 を有する微細凹凸構造の製造方法。

IPC (7件)：

G02B 1/10 ,  B29C 59/18 ,  B29C 59/14 ,  B29C 59/16 ,  B32B 3/30 ,  G02B 5/02 ,  B32B 37/00

FI (7件)：

G02B1/10 Z ,  B29C59/18 ,  B29C59/14 ,  B29C59/16 ,  B32B3/30 ,  G02B5/02 C ,  B32B31/16

Fターム (29件)：

2H042BA04 ,  2H042BA11 ,  2H042BA15 ,  2H042BA16 ,  2K009BB11 ,  2K009DD04 ,  2K009DD05 ,  2K009DD15 ,  2K009EE00 ,  4F100AK52A ,  4F100AT00A ,  4F100CC00B ,  4F100EJ373 ,  4F100EJ521 ,  4F100EJ541 ,  4F100JK01B ,  4F209AA33 ,  4F209AF01 ,  4F209AG01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209PA14 ,  4F209PA15 ,  4F209PA16 ,  4F209PB01 ,  4F209PC05 ,  4F209PG05 ,  4F209PG14 ,  4F209PN20