特許
J-GLOBAL ID：201603006432876968
マスクデータの作成方法、プログラム、情報処理装置、マスク製造方法、露光方法及びデバイス製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
阿部 琢磨
, 黒岩 創吾
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-203005
公開番号（公開出願番号）：特開2014-059362
特許番号：特許第5980065号
出願日： 2012年09月14日
公開日（公表日）： 2014年04月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 マスクを照明し、投影光学系を用いて前記マスクのパターンの像を基板に投影して前記基板を露光する露光装置に用いられる前記マスクのデータをコンピュータを用いて作成する作成方法であって、
単一セルのパターンの像を基板上のレジストに投影して前記レジストを現像した後に前記基板上に形成されるパターンの評価値が目標値に近づくように補正された前記単一セルの第1補正パターンのデータを、複数のセルのそれぞれについて取得する工程と、
前記単一セルの第1補正パターンの前記投影光学系による投影像を評価して得られる第1評価値を、前記複数のセルのそれぞれについて取得する工程と、
前記複数のセルを隣接させた場合に、前記複数のセルの第1補正パターンの前記投影光学系による投影像を評価して得られる第2評価値を計算する工程と、
前記第2評価値が前記第1評価値に近づくように、隣接された前記複数のセルの第1補正パターンを補正して第2補正パターンを作成する工程と、
隣接された前記複数のセルの前記第2補正パターンを含む前記マスクのデータを作成する工程とを有することを特徴とする作成方法。
IPC (2件)：
G03F 1/70 ( 201 2.01)
, G03F 1/36 ( 201 2.01)
