特許
J-GLOBAL ID:201603006507001830
排ガス分析システム及びポンプ装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
西村 竜平
, 齊藤 真大
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-218275
公開番号(公開出願番号):特開2016-085129
出願日: 2014年10月27日
公開日(公表日): 2016年05月19日
要約:
【課題】圧縮空気源を有する補正ガス流路を不要にすることで、排ガス分析システムを小型化する。【解決手段】排ガス及び前記希釈用ガスを混合した希釈排ガスを流すとともに、PM捕集フィルタ6が設けられるメイン流路4と、メイン流路4のPM捕集フィルタ6よりも上流側に接続されて、メイン流路4から希釈排ガスの一部を採取して、分析計7に導入する希釈排ガス採取流路5と、メイン流路4のPM捕集フィルタ6よりも下流側に設けられた希釈排ガス流量調整機構45と、希釈排ガス採取流路5を流れる希釈排ガスの採取流量に応じて、希釈排ガス流量調整機構45による設定流量を変更する制御機器とを備える。【選択図】図1
請求項(抜粋):
内燃機関から排出される排ガスの一部又は全部を採取するとともに、当該排ガスを希釈して分析する排ガス分析システムであって、
前記排ガスが流れる排ガス流路と、
前記希釈用ガスが流れる希釈用ガス流路と、
前記排ガス流路及び前記希釈用ガス流路が接続され、前記排ガス及び前記希釈用ガスを混合した希釈排ガスを流すとともに、前記排ガスを分析するための第1分析機器が設けられるメイン流路と、
前記メイン流路の前記第1分析機器よりも上流側に接続されて、前記メイン流路から希釈排ガスの一部を採取して、前記排ガスを分析するための第2分析機器に導入する希釈排ガス採取流路と、
前記メイン流路の前記第1分析機器よりも下流側に設けられ、前記メイン流路を流れる希釈排ガス流量を調整する希釈排ガス流量調整機構と、
前記希釈排ガス採取流路を流れる希釈排ガス採取流量に応じて、前記希釈排ガス流量調整機構による設定流量を変更する制御機器と、を備える排ガス分析システム。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (14件):
2G052AA02
, 2G052AA04
, 2G052AC20
, 2G052AD04
, 2G052AD24
, 2G052AD44
, 2G052BA03
, 2G052EA03
, 2G052HA03
, 2G087AA15
, 2G087BB28
, 2G087CC19
, 2G087CC29
, 2G087EE17
引用特許:
審査官引用 (3件)
-
排気ガス用サンプリング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-074979
出願人:株式会社堀場製作所
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ガス希釈システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-240854
出願人:株式会社堀場製作所
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排ガス分析システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-166435
出願人:株式会社堀場製作所
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