特許
J-GLOBAL ID:201603007032555905

二次イオン質量分析装置及び二次イオン質量分析方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 伊東 忠重 ,  伊東 忠彦 ,  加藤 隆夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-121680
公開番号(公開出願番号):特開2016-001578
出願日: 2014年06月12日
公開日(公表日): 2016年01月07日
要約:
【課題】より多くの試料を正確に分析することのできる二次イオン質量分析装置を提供する。【解決手段】試料に一次イオンを照射する一次イオン源と、前記一次イオンを前記試料に照射することにより発生した二次イオンを検出する検出器と、前記試料に前記試料におけるバンドギャップよりも高いエネルギーの光を照射する光源と、を有し、前記光源は、前記検出器における二次イオン検出領域の周囲に設けられており、前記光源からの光を前記試料に照射しながら二次イオン質量分析を行うことを特徴とする二次イオン質量分析装置により上記課題を解決する。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
試料に一次イオンを照射する一次イオン源と、 前記一次イオンを前記試料に照射することにより発生した二次イオンを検出する検出器と、 前記試料に前記試料におけるバンドギャップよりも高いエネルギーの光を照射する光源と、 を有し、 前記光源は、前記検出器における二次イオン検出領域の周囲に設けられており、 前記光源からの光を前記試料に照射しながら二次イオン質量分析を行うことを特徴とする二次イオン質量分析装置。
IPC (4件):
H01J 49/10 ,  G01N 27/62 ,  H01J 37/252 ,  H01J 37/20
FI (4件):
H01J49/10 ,  G01N27/62 G ,  H01J37/252 B ,  H01J37/20 H
Fターム (10件):
2G041CA01 ,  2G041DA16 ,  2G041EA01 ,  5C001BB07 ,  5C001CC08 ,  5C033QQ09 ,  5C033QQ15 ,  5C038GG02 ,  5C038GH01 ,  5C038GH17

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