特許
J-GLOBAL ID：201603007086701303
露光装置、露光方法、並びにデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
大野 聖二
, 小林 英了
, 大谷 寛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-003686
公開番号（公開出願番号）：特開2016-085470
出願日： 2016年01月12日
公開日（公表日）： 2016年05月19日
要約：
【課題】複数種類のフォトレジスト層がそれぞれ設けられた複数の基板に対して、液浸露光を円滑に行うことができる露光装置を提供する。【解決手段】投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより基板を露光する際、記憶装置に記憶された液浸条件の中から基板上の液体接触面に形成される膜部材に最適なものを選択する。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
液体を介して照明光で基板を露光する液浸露光装置であって、
前記照明光でマスクを照明する照明光学系と、
前記液体と接するレンズを含む複数の光学素子を有し、前記複数の光学素子の少なくとも一部の移動によって結像特性が調整可能な投影光学系と、
前記マスクを保持し、前記投影光学系の上方で移動可能なマスクステージと、
前記液体の供給口および回収口を含み、前記レンズの周囲に設けられる液浸部材を有し、前記供給口を介して前記投影光学系の下に液体を供給し、前記回収口を介して前記投影光学系の下から液体を回収するとともに、前記投影光学系と前記液体とを介して前記照明光が照射される投影領域を含むように前記投影光学系と前記基板の一部との間に前記液体で液浸領域を形成する液浸機構と、
前記基板を保持し、前記投影光学系の下方で移動可能な基板ステージと、
前記照明光が照射される照明領域に対して前記マスクが相対移動するように前記マスクステージを移動するとともに、前記液浸領域内の前記投影領域に対して前記基板が相対移動するように前記基板ステージを移動する駆動装置と、
前記基板と前記液浸領域の液体との接触角に関する情報に基づいて決定される液浸条件で前記液浸領域の液体を介して前記基板が露光されるように前記液浸機構を制御する制御装置と、を備える。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F7/20 521
, G03F7/22 H
, G03F7/20 501
2H197AA06
, 2H197AA09
, 2H197AA12
, 2H197BA17
, 2H197DB27
, 2H197DC20
, 2H197HA03
, 2H197HA04
, 2H197HA05
, 2H197HA10
