特許
J-GLOBAL ID：201603007112848539

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
平岡 崇志

平岡 崇志 について

, 
藤田 真吾

藤田 真吾 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-020450
公開番号（公開出願番号）：特開2016-128921
出願日： 2016年02月05日
公開日（公表日）： 2016年07月14日
要約：
【課題】優れたマスクエラーファクターで、欠陥数が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。【解決手段】(A1)式(aa)で表される構造単位と、式(a1-1)で表される構造単位又は式(a1-2)で表される構造単位とを有する樹脂、(A2)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となり、式(aa)で表される構造単位を有さず、ヒドロキシアダマンタン基を含む構造単位を有する樹脂、並びに(B)酸発生剤を含有するレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A1)式(aa)で表される構造単位と、式(a1-1)で表される構造単位及び式(a1-2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1種とを有する樹脂、 (A2)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となり、式(aa)で表される構造単位を有さず、ヒドロキシアダマンタン基を含む構造単位を有する樹脂、並びに (B)酸発生剤を含有するレジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 220/18 ,  C08F 220/24 ,  C08F 220/28 ,  G03F 7/20
FI (6件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/20 521
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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