特許
J-GLOBAL ID：201603007118608769
高分子ゲル及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊藤 温
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-175795
公開番号（公開出願番号）：特開2012-036262
特許番号：特許第5850417号
出願日： 2010年08月04日
公開日（公表日）： 2012年02月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】1)架橋構造を有する第一の網目構造体中に分子ステントを導入する工程;
及び
2)分子ステントを導入した第一の網目構造体内に第二のモノマーを導入して重合する工程を含む高分子ゲルの製造方法であって、
該第一の網目構造体の原料が、
電気的に中性である不飽和モノマー、電荷を有する不飽和モノマー又はこれらの共重合体であり、
該電気的に中性である不飽和モノマーが、
アクリルアミド系モノマー、ビニル系モノマー、アルキルアクリレート系モノマー、ヒドロキシアルキルアクリレート系モノマー又はフッ素含有不飽和モノマーであり、
該電荷を有する不飽和モノマーが、
酸性基若しくは塩基性基を有する不飽和モノマー又はそれらの塩であり、
該分子ステントが、
スルホン酸系モノマー又はその塩、4級アミン塩系モノマーからなる群から選ばれる一又は二種以上の電解質モノマーを重合して得られる強電解質ポリマーであり、
該分子ステント導入後の第一の網目構造体内の浸透圧πstentと、前記第一の網目構造体の初期弾性率E1st netとが下記式(1)の関係を満足し、
πstent / E1st net ≧ 1.5 (1)
網目構造体内での分子ステントの拡散係数Dstentと、網目構造体内での第二モノマーの拡散係数D2nd monoとの関係が下記式(2)の関係を満足する
D2nd mono / Dstent ≧ 2 (2)
ことを特徴とする高分子ゲルの製造方法。
IPC (3件)：
C08F 2/44 ( 200 6.01)
, C08F 265/04 ( 200 6.01)
, C09K 3/00 ( 200 6.01)
C08F 2/44 C
, C08F 265/04
, C09K 3/00 103 L
