高分子化合物の製造方法及びレジストパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 五十嵐光永
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-054413
公開番号（公開出願番号）：特開2013-189487
特許番号：特許第5965682号
出願日： 2012年03月12日
公開日（公表日）： 2013年09月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】少なくとも、露光により分解して酸を発生する基を有するモノマーを、環状部分の炭素数が2〜6の環状エーテル骨格を有するアルコールを含有する有機溶剤下で重合させることを特徴とする高分子化合物の製造方法。

IPC (3件)：