特許
J-GLOBAL ID：201603007422008336
撥水性保護膜形成用薬液、撥水性保護膜形成用薬液キット、及びウェハの洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西 義之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-020347
公開番号（公開出願番号）：特開2013-161833
特許番号：特許第5974514号
出願日： 2012年02月01日
公開日（公表日）： 2013年08月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】表面に凹凸パターンを有し該凹凸パターンの少なくとも凹部表面にケイ素元素を含む酸化ケイ素以外のケイ素系ウェハの洗浄工程の後、乾燥工程の前において、前記ウェハの少なくとも凹部表面に撥水性保護膜を形成するための撥水性保護膜形成用薬液であり、
前記薬液は、
下記一般式[1]で表されるケイ素化合物のみからなる保護膜形成剤と
非水溶媒とが含まれる薬液であって、
前記非水溶媒が、ラクトン系溶媒及びカーボネート系溶媒から選ばれる少なくとも1種の溶媒(I)と、該溶媒(I)以外のケイ素化合物を可溶な溶媒(II)が質量比で40:60〜97:3で構成されることを特徴とする、撥水性保護膜形成用薬液。
R1aSiX4-a [1]
[式[1]中、R1は、それぞれ互いに独立して、水素基、一部又は全ての水素元素がハロゲン元素に置き換えられていても良い炭素数が1〜18の1価の炭化水素基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基であり、ケイ素元素と結合する全ての前記炭化水素基に含まれる炭素数の合計は6以上である。また、Xは、それぞれ互いに独立して、イソシアネート基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、イソチオシアネート基、アジド基、アセトアミド基、-N(CH3)C(O)CH3、-N(CH3)C(O)CF3、-N=C(CH3)OSi(CH3)3、-N=C(CF3)OSi(CH3)3、-NHC(O)-OSi(CH3)3、-NHC(O)-NH-Si(CH3)3、イミダゾール環(下式[4])、オキサゾリジノン環(下式[5])、モルホリン環(下式[6])、-NH-C(O)-Si(CH3)3、ケイ素元素と結合する元素が酸素である1価の官能基、ハロゲン基、ニトリル基、および、-CO-NH-Si(CH3)3からなる群から選ばれる少なくとも1つの基であり、aは1〜3の整数である。]
IPC (2件)：
H01L 21/304 ( 200 6.01)
, C09K 3/18 ( 200 6.01)
H01L 21/304 647 A
, H01L 21/304 647 Z
, C09K 3/18 104
