特許
J-GLOBAL ID：201603007495459840
ウエハ形状物品の液体処理のための装置およびプロセス
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-084115
公開番号（公開出願番号）：特開2016-167614
出願日： 2016年04月20日
公開日（公表日）： 2016年09月15日
要約：
【課題】ウエハの主表面を処理しつつ、ウエハの反対側の主表面とウエハのエッジ表面を処理しない洗浄装置及び装置を提供する【解決手段】枚葉式ウエハ湿式処理のための装置におけるスピンチャック1は、ウエハWのエッジ周りでウエハのチャック対向面から流れるガスを方向付けてウエハの非チャック対向面から離れるようにガスを排出する一連の環状ノズルを、支持されたウエハと共に形成する構造を周囲に有しており、それによって、非チャック対向面に供給された処理流体がウエハのエッジ領域に触れることを防止する。拡大ヘッドを備えた保持ピンがウエハエッジと係合し、高流量のガスが利用された場合にウエハが上方にずれることを防ぐ。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板の表面を処理するための装置であって、
所定の向きに基板を配置するよう適合されたホルダと、
前記ホルダの上方に配置された基板と共に第1のノズルを規定するよう適合された前記ホルダの第1の上側周囲面と、
前記第1の上側周囲面の外側に配置され、前記ホルダの上方に配置された基板と共に第2のノズルを規定するよう適合された前記ホルダの第2の上側周囲面であって、前記第1および第2の上側周囲面は、それらの間に形成された凹部によって隔てられている、第2の上側周囲面と、
前記第1および第2の上側周囲面にわたって外側に向けられたガス流を供給するよう構成されたガス供給部と、
前記第1および第2の上側周囲面の外側に位置し、前記ホルダ上に配置された基板の周辺エッジに対向する前記ホルダの内向き周囲面であって、前記第2のノズルから上方に流出するガス流を方向付けるよう構成されている、内向き周囲面と、
を備える、装置。
IPC (5件)：
H01L 21/304
, H01L 21/306
, H01L 21/683
, H01L 21/677
, B65G 49/07
H01L21/304 643A
, H01L21/304 648Z
, H01L21/306 R
, H01L21/68 N
, H01L21/68 C
, B65G49/07 H
