特許

J-GLOBAL ID：201603007599959934

マイクロ波放射アンテナ、マイクロ波プラズマ源およびプラズマ処理装置

発明者： 池田 太郎 ,  小松 智仁 ,  河西 繁 ,  中込 淳
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-072595
公開番号（公開出願番号）：特開2013-206634
特許番号：特許第5916467号
出願日： 2012年03月27日
公開日（公表日）： 2013年10月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 チャンバ内に表面波プラズマを形成してプラズマ処理を行うプラズマ処理装置において、マイクロ波生成機構で生成され、マイクロ波伝送路を伝送されたマイクロ波をチャンバ内に放射するマイクロ波放射アンテナであって、 導体からなるアンテナ本体と、 前記アンテナ本体に設けられた、マイクロ波を放射する複数のスロットと、 前記アンテナ本体に設けられた、処理ガスを前記チャンバ内に吐出する複数のガス吐出孔と を有し、 前記マイクロ波により表面に金属表面波が形成されて、この金属表面波により表面波プラズマが生成され、 前記アンテナ本体の金属表面の少なくとも一部が前記表面波プラズマから直流的に絶縁されるように構成され、 前記アンテナ本体の表面の少なくとも一部が、金属表面波を維持可能な厚さの誘電体層で覆うことにより絶縁され、 前記誘電体層は、誘電体薄板で形成され、 前記誘電体薄板は、前記アンテナ本体との対向面の一部に、前記スロットおよび前記ガス吐出孔を除いたパターンを有する金属膜を有することを特徴とするマイクロ波放射アンテナ。

IPC (3件)：

H05H 1/46 ( 200 6.01) ,  H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  H01P 5/103 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H05H 1/46 B ,  H01L 21/302 101 D ,  H01P 5/103 Z

引用特許：

出願人引用 (1件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-153324   出願人：東京エレクトロン株式会社, 国立大学法人東北大学

審査官引用 (1件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-153324   出願人：東京エレクトロン株式会社, 国立大学法人東北大学