特許
J-GLOBAL ID：201603007635115802
αFeナノ結晶分散アモルファス溶射被膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
岩橋 祐司
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2013061459
公開番号（公開出願番号）：WO2013-157596
出願日： 2013年04月18日
公開日（公表日）： 2013年10月24日
要約：
本発明は、粒径0.3nm以上で平均粒径10nm未満のαFe微結晶が分散したナノヘテロ構造を有するアモルファス相であり、且つ第1結晶化温度Tx1及び第2結晶化温度Tx2を有するFe含量74原子%以上の合金粉末を、プラズマジェットあるいは燃焼フレームを用いた溶射法により基材表面に衝突させてαFeナノ結晶が分散しているアモルファス溶射被膜を形成する溶射工程を備え、前記溶射工程において、飛行中の合金粉末の粒子内部温度がTx2以下の温度で、且つ300m/s以上の飛行粒子速度で合金粉末が基材表面に衝突して、粒径0.3nm以上で平均粒径30nm以下のαFeナノ結晶が分散しているアモルファス溶射被膜を形成することを特徴とするαFeナノ結晶分散溶射被膜の製造方法を提供する。
請求項（抜粋）：
アモルファス母相中に、粒径0.3nm以上で平均粒径10nm未満のαFe微結晶が分散した構造を有し、且つ第1結晶化温度Tx1及び第2結晶化温度Tx2を有するFe含量74原子%以上の合金粉末を、プラズマジェットあるいは燃焼フレームを用いた溶射法により基材表面に衝突させてαFeナノ結晶が分散しているアモルファス溶射被膜を形成する溶射工程を備え、
前記溶射工程において、飛行中の合金粉末の粒子内部温度がTx2以下の温度で、且つ300m/s以上の飛行粒子速度で合金粉末が基材表面に衝突して、粒径0.3nm以上で平均粒径30nm以下のαFeナノ結晶が分散しているアモルファス溶射被膜を形成することを特徴とするαFeナノ結晶分散溶射被膜の製造方法。
IPC (5件)：
C23C 4/06
, C23C 4/18
, C22C 45/02
, H01F 10/13
, C23C 4/12
C23C4/06
, C23C4/18
, C22C45/02 A
, H01F10/13
, C23C4/12
4K031AA08
, 4K031AB02
, 4K031BA01
, 4K031CB01
, 4K031CB07
, 4K031CB21
, 4K031CB25
, 4K031DA01
, 4K031DA04
, 4K031EA10
, 4K031EA11
, 4K031FA01
, 5E049AA01
, 5E049AC01
, 5E049FC03
