特許

J-GLOBAL ID：201603008229427794

溶液及びポリマーマトリクス中で中間相構造体となる表面修飾剥離ナノプレートレット

発明者： スー, ハン-ジュー ,  ウォン, ミンハオ ,  リー, ポン ,  西村 理一
出願人/特許権者： ザ テキサス エー アンド エム ユニバーシティ システム ,  株式会社カネカ
代理人 (1件)： 特許業務法人 安富国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-551802
公開番号（公開出願番号）：特表2016-508176
出願日： 2014年01月06日
公開日（公表日）： 2016年03月17日
要約：

【課題】溶液及びポリマーマトリクス中で中間相構造体となる表面修飾剥離ナノプレートレットの提供。【解決手段】有機連続相と、オリゴマー修飾ナノプレートレットの中間相構造体とを含むナノコンポジットの製造方法。上記オリゴマーは分子量が少なくとも100g/molである。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

有機連続相と、オリゴマー修飾ナノプレートレットとを含むナノコンポジットであって、 前記オリゴマーは分子量が少なくとも100g/molであり、 前記オリゴマー修飾ナノプレートレットは中間相構造体を形成している、 ナノコンポジット。

IPC (7件)：

C08L 101/00 ,  C01B 25/08 ,  C08K 9/00 ,  C08K 3/34 ,  C08K 3/32 ,  C08K 3/22 ,  C08K 3/04

FI (7件)：

C08L101/00 ,  C01B25/08 G ,  C08K9/00 ,  C08K3/34 ,  C08K3/32 ,  C08K3/22 ,  C08K3/04

Fターム (12件)：

4J002AA001 ,  4J002CD001 ,  4J002DA026 ,  4J002DE046 ,  4J002DJ006 ,  4J002DJ016 ,  4J002DJ036 ,  4J002FB086 ,  4J002FB266 ,  4J002FD140 ,  4J002FD150 ,  4J002GT00

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 電磁放射線に対する障壁特性を有するナノコンポジット材料およびその製造プロセス
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2011-529587   出願人：ナノバイオマターズ,エス.エル.
• 分散ナノ粒子および無機ナノプレートレットを含むポリマーナノ複合体
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2010-518207   出願人：ザテキサスエイアンドエムユニヴァーシティシステム, 株式会社カネカ
• モジュール式ポリ(フェニレンエチレニン)の合成方法及びナノマテリアルを機能化するためにその電子特性を微調整する方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-508537   出願人：ザイベックスコーポレーション

引用文献：

審査官引用 (2件)

• Epoxy Nanocomposites Based on the Synthetic α-Zirconium Phosphate Layer Structure
• Intercalation of Polyether amines into α-Zirconium phosphate