特許
J-GLOBAL ID:201603008256891230
紙製造装置及び排水処理方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
林 一好
, 新山 雄一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-262399
公開番号(公開出願番号):特開2016-121422
出願日: 2014年12月25日
公開日(公表日): 2016年07月07日
要約:
【課題】防臭性をよりいっそう高めるための酸化剤の添加条件を見出すとともに、紙製造装置の腐食を抑え、コストの低減を図る。【解決手段】本発明の紙製造装置1は、原料から紙を製造する紙製造部10から排水された水を処理する排水処理部30と、処理水、スカム及び汚泥からなる群より選択される少なくとも一以上(以下、「処理水等」ともいう。)を、紙製造部10と同一の紙製造部10又は他の紙製造部10’に供給する処理水等供給部40と、排水処理部30又は処理水等供給部40における処理水等に対し、水溶液の酸化還元電位が次亜塩素酸ナトリウムの水溶液の酸化還元電位よりも小さい弱酸化剤を供給する弱酸化剤供給部50と、一以上の紙製造部10,10’等のうち、処理水等供給部40によって処理水等が供給される紙製造部10,10’の少なくとも一つに殺菌剤を供給する殺菌剤供給部60とを備える。【選択図】図1
請求項(抜粋):
原料から紙を製造する紙製造部から排水された水を処理する排水処理部と、
前記排水処理部で処理が施された処理水、前記排水処理部に存在するスカム及び前記排水処理部に存在する汚泥からなる群より選択される少なくとも一以上を、前記紙製造部と同一の又は他の紙製造部に供給する処理水等供給部と、
前記排水処理部又は前記処理水等供給部における前記処理水、前記スカム及び前記汚泥からなる群より選択される少なくとも一以上に対し、水溶液の酸化還元電位が次亜塩素酸ナトリウムの水溶液の酸化還元電位よりも小さい弱酸化剤を供給する弱酸化剤供給部と、
一以上の紙製造部のうち、前記処理水等供給部によって前記処理水、前記スカム及び前記汚泥からなる群より選択される少なくとも一以上が供給される紙製造部の少なくとも一つに殺菌剤を供給する殺菌剤供給部とを備える紙製造装置。
IPC (4件):
D21H 21/04
, C02F 1/50
, C02F 1/72
, C02F 11/00
FI (17件):
D21H21/04
, C02F1/50 510A
, C02F1/50 520P
, C02F1/50 531L
, C02F1/50 531M
, C02F1/50 531N
, C02F1/50 531P
, C02F1/50 531Z
, C02F1/50 532E
, C02F1/50 532H
, C02F1/50 550H
, C02F1/50 550L
, C02F1/50 560H
, C02F1/50 560Z
, C02F1/72 Z
, C02F11/00 F
, C02F11/00 Z
Fターム (36件):
4D050AA13
, 4D050AB04
, 4D050AB06
, 4D050AB11
, 4D050AB26
, 4D050BB03
, 4D050BB07
, 4D050BB09
, 4D050BB20
, 4D050BD02
, 4D050BD03
, 4D050BD06
, 4D050BD08
, 4D050CA04
, 4D050CA12
, 4D050CA16
, 4D050CA17
, 4D059AA03
, 4D059BC02
, 4D059BK03
, 4D059BK13
, 4D059CA28
, 4D059DA41
, 4D059DA44
, 4D059DA45
, 4D059DB04
, 4D059DB08
, 4D059DB40
, 4D059EA01
, 4D059EA20
, 4D059EB20
, 4L055AH21
, 4L055BC13
, 4L055BG02
, 4L055BG03
, 4L055FA20
引用特許:
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