特許
J-GLOBAL ID:201603008292318610
透明導電膜および積層構造体
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-002541
公開番号(公開出願番号):特開2016-126988
出願日: 2015年01月08日
公開日(公表日): 2016年07月11日
要約:
【課題】半導体膜との密着性に優れ、さらに、透過性に優れ、また、耐酸性や耐久性にも優れた低抵抗の透明導電膜を提供する。【解決手段】金属酸化物を主成分として含む透明導電膜を、原料溶液を霧化または液滴化して生成されるミストまたは液滴を、キャリアガスでもって基体まで搬送し、ついで該基体上で該ミストまたは該液滴を加熱により熱反応させて形成する。また、前記透明導電膜上に、半導体膜を、原料溶液を霧化または液滴化して生成されるミストまたは液滴を、キャリアガスでもって基体まで搬送し、ついで該基体上で該ミストまたは該液滴を加熱により熱反応させて形成することにより、積層構造体を得る。【選択図】なし
請求項(抜粋):
金属酸化物を主成分として含む透明導電膜であって、原料溶液を霧化または液滴化して生成されるミストまたは液滴を、キャリアガスでもって基体まで搬送し、ついで該基体上で該ミストまたは該液滴を加熱により熱反応させてなる結晶膜であることを特徴とする透明導電膜。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (17件):
4K044AA01
, 4K044AA11
, 4K044AA16
, 4K044BA12
, 4K044BC14
, 4K044CA14
, 4K044CA24
, 4K044CA44
, 5G307FA01
, 5G307FB01
, 5G307FC02
, 5G307FC05
, 5G307FC09
, 5G307FC10
, 5G323BA02
, 5G323BB03
, 5G323BC01
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