特許
J-GLOBAL ID：201603008297812590

修飾ヒアルロン酸及び/又はその塩、並びにその製造方法

発明者：
村松 和明

村松 和明 について


出願人/特許権者：
学校法人東京電機大学

学校法人東京電機大学 について


代理人 (4件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史 ,  江口 昭彦 ,  内藤 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-016077
公開番号（公開出願番号）：特開2016-141697
出願日： 2015年01月29日
公開日（公表日）： 2016年08月08日
要約：
【課題】耐酵素分解活性及び高い生理活性を有する修飾ヒアルロン酸及び/又はその塩、並びにその製造方法を提供する。【解決手段】分子量が750以上20,000以下であるポリグルタミル基で修飾された修飾ヒアルロン酸及び/又はその塩を提供する。また、ヒアルロン酸と分子量が750以上20,000以下であるポリグルタミン酸を反応させることを含む、ポリグルタミル基で修飾された修飾ヒアルロン酸及び/又はその塩の製造方法を提供する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
分子量が750以上20,000以下であるポリグルタミル基で修飾された修飾ヒアルロン酸及び/又はその塩。
IPC (7件)：
C08B 37/08 ,  A61K 31/728 ,  A61P 19/02 ,  A61K 8/73 ,  A61Q 19/00 ,  A23L 5/00 ,  A23L 33/10
FI (7件)：
C08B37/08 Z ,  A61K31/728 ,  A61P19/02 ,  A61K8/73 ,  A61Q19/00 ,  A23L1/00 K ,  A23L1/30 Z
Fターム (30件)：
4B018MD27 ,  4B018ME14 ,  4B035LC03 ,  4B035LC16 ,  4B035LG20 ,  4C083AD331 ,  4C083CC02 ,  4C083FF01 ,  4C086AA01 ,  4C086AA02 ,  4C086AA03 ,  4C086AA04 ,  4C086EA25 ,  4C086MA01 ,  4C086MA04 ,  4C086NA05 ,  4C086NA14 ,  4C086ZA96 ,  4C090AA02 ,  4C090AA05 ,  4C090AA09 ,  4C090BA67 ,  4C090BB62 ,  4C090BB65 ,  4C090BB98 ,  4C090BD36 ,  4C090CA35 ,  4C090DA23 ,  4C090DA26 ,  4C090DA27
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (1件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM