特許
J-GLOBAL ID：201603008304418771
基板上に液体フィルムを形成する方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
村山 靖彦
, 実広 信哉
, 阿部 達彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-544442
公開番号（公開出願番号）：特表2016-506493
出願日： 2013年11月26日
公開日（公表日）： 2016年03月03日
要約：
本方法は基板(10)上に液体フィルムを形成する方法であって、以下の段階を含む。・チャンバ(12)内に基板(10)を配置し、基板(10)上に組成物(14)を置く段階であって、組成物(14)が水を含む段階、・チャンバ(12)内部に揮発性液体(16)を導入する段階、・所定の時間チャンバ(12)を閉鎖し、この閉鎖段階の間チャンバ(12)内で揮発性液体(16)が蒸発する段階。 本方法は、チャンバ(12)外部への、揮発性液体(16)の蒸発によって形成される蒸気の、少なくとも部分的な取り出しをさらに含み、この取り出しは基板(10)上の組成物(14)のスプレッディングを生じさせ、前記スプレッディングされた組成物(14)が結果的に基板(10)上に液体フィルムを形成する。
請求項（抜粋）：
基板(10)上に液体フィルムを形成する方法であって、
・チャンバ(12)内に基板(10)を配置(50)し、基板(10)上に組成物(14)を置く段階であって、組成物(14)が水を含む段階、
・チャンバ(12)内部に揮発性液体(16)を導入する段階(55)、
・所定の時間チャンバ(12)を閉鎖する段階(60)であって、この閉鎖段階(60)の間チャンバ(12)内で揮発性液体(16)が蒸発する段階、
を含み、
・チャンバ(12)外部への、揮発性液体(16)の蒸発によって形成される蒸気の、少なくとも部分的な取り出し段階(65)であって、この取り出し(65)は基板(10)上の組成物(14)のスプレッディングを生じさせ、前記スプレッディングされた組成物(14)が結果的に基板(10)上に液体フィルムを形成する段階
をさらに含むことを特徴とする方法。
IPC (3件)：
G01N 1/28
, G01N 21/17
, C12Q 1/02
G01N1/28 U
, G01N21/17 A
, G01N1/28 V
, G01N1/28 F
, C12Q1/02
2G052AA33
, 2G052AA36
, 2G052AD35
, 2G052DA07
, 2G052FA05
, 2G052FD01
, 2G052FD06
, 2G052GA11
, 2G059AA05
, 2G059BB12
, 2G059DD01
, 2G059DD11
, 2G059EE01
, 2G059FF01
, 4B063QA18
, 4B063QQ05
, 4B063QQ06
, 4B063QR74
, 4B063QR75
, 4B063QS39
, 4B063QX01
