光学膜厚測定方法、光学膜厚測定システム及び光学膜厚測定プログラム他

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人光陽国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-522537
特許番号：特許第5979143号
出願日： 2012年05月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板上に1又は2以上の干渉膜が積層した積層体における該干渉膜の光学膜厚を反射干渉分光法により測定する光学膜厚測定方法であって、予め、干渉膜の光学膜厚が既知の前記積層体における分光反射率の極値を与える波長と当該光学膜厚との関係を異なる光学膜厚について関数で作成しておき、反射干渉分光法により得られた測定対象の前記積層体における分光反射率の極値を与える波長を、前記関係に当てはめて、極値を与える波長が近似する光学膜厚を同定することにより、測定対象の前記積層体における光学膜厚を求める光学膜厚測定方法。

IPC (1件)：