特許

J-GLOBAL ID：201603008370344649

基板処理装置

発明者： 中井 仁司
出願人/特許権者： 株式会社SCREENホールディングス
代理人 (3件)： 松阪 正弘 ,  田中 勉 ,  井田 正道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-016675
公開番号（公開出願番号）：特開2016-143702
出願日： 2015年01月30日
公開日（公表日）： 2016年08月08日
要約：

【課題】原料液を高い均一性にて混合し、均質な処理液を基板に供給する。【解決手段】基板処理装置は、基板9を保持する基板保持部と、第1原料液と第2原料液とを混合して処理液を生成する処理液生成部63と、処理液生成部63からの処理液を基板9へと導く供給流路60とを備える。処理液生成部63は、第1供給源71から微少流量にて供給される第1原料液と第2供給源72から微少流量にて供給される第2原料液とを合流させて合流液として送出する合流部64と、合流部64から送出された合流液を供給流路60へと導く流路の少なくとも一部であり、合流部64からの合流液のうち先行して流れる液体と後続の液体とを混合することにより処理液を生成する液体混合部65とを備える。基板処理装置では、原料液を高い均一性にて混合し、均質な処理液を基板9に供給することができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板に処理液を供給して処理を行う基板処理装置であって、 基板を保持する基板保持部と、 第1原料液と第2原料液とを混合して処理液を生成する処理液生成部と、 前記処理液生成部からの前記処理液を前記基板へと導く供給流路と、 を備え、 前記処理液生成部が、 第1供給源から微少流量にて供給される前記第1原料液と第2供給源から微少流量にて供給される前記第2原料液とを合流させて合流液として送出する合流部と、 前記合流部から送出された前記合流液を前記供給流路へと導く流路の少なくとも一部であり、前記合流部からの前記合流液のうち先行して流れる液体と後続の液体とを混合することにより前記処理液を生成する液体混合部と、 を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/304 ,  B01F 5/06 ,  B01F 3/08 ,  B01D 19/00 ,  H01L 21/306

FI (6件)：

H01L21/304 648K ,  B01F5/06 ,  B01F3/08 Z ,  B01D19/00 H ,  H01L21/306 R ,  H01L21/304 643C

Fターム (16件)：

4D011AA17 ,  4D011AD03 ,  4G035AB37 ,  4G035AC26 ,  4G035AE01 ,  4G035AE13 ,  5F043EE07 ,  5F043EE31 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157BB38 ,  5F157CA11 ,  5F157CF60 ,  5F157CF72 ,  5F157DB02