特許
J-GLOBAL ID：201603008568324341
平らな被処理材料の処理のための装置と方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
藤田 アキラ
, 今井 秀樹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-542243
特許番号：特許第5938530号
出願日： 2013年11月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 平らな被処理材料(B)を処理液(F)で化学的処理又は電解処理するための装置(1)であって、
- 処理液(F)を浴レベル(M)まで蓄積可能な少なくとも1つの処理室(20)と、
- 処理液(F)を前記少なくとも1つの処理室(20)に供給するための少なくとも1つの供給装置(7)と、
- 前記平らな被処理材料(B)が前記少なくとも1つの処理室(20)を通って前記浴レベル(M)より低い搬送面(E)にて水平位置で搬送されることが可能な少なくとも1つの搬送装置(30)と、
- 処理液(F)を受けるための少なくとも1つの受け範囲(4)と、
- 処理液(F)を前記少なくとも1つの処理室(20)から夫々の排出率で前記少なくとも1つの受け範囲(4)に輸送するための処理液(F)用排出開口(41)を夫々少なくとも1つ備えた少なくとも1つの排出装置(40)と
を有し、
前記少なくとも1つの排出装置(40)が夫々、少なくとも1つの制御系(43)を有し、この制御系で前記少なくとも1つの排出開口(41)を通る処理液(F)の排出率が調整可能であり、
少なくとも1つのスクリーン装置(60)が夫々、前記少なくとも1つの処理室(20)と前記少なくとも1つの排出装置(40)の間に配置され、夫々排出室(61)が前記少なくとも1つのスクリーン装置(60)と前記少なくとも1つの排出開口(41)の間に形成される、化学的処理又は電解処理のための装置(1)において、
前記供給装置(7)が被処理材料(B)に面して配置され、被処理材料(B)の対向する二面に対し処理液(F)を輸送し、且つ
前記少なくとも1つのスクリーン装置(60)が夫々、被処理材料(B)のための搬送面(B)の高さレベルに配置された前記少なくとも1つの排出室(61)への処理液(F)の通過のための少なくとも1つの通路開口(62)を有し、スクリーン装置(60)に設けられた前記通路開口(62)が、被処理材料(B)が処理室(20)に搬送される輸送路に対して横に配置されること、及び/又は
前記少なくとも1つのスクリーン装置(60)が夫々、少なくとも部分的に処理室(20)の底を形成し、前記排出室(61)の下壁に本質的に平行に延在し、該排出室から離れていることで前記排出室(61)の下壁と前記スクリーン装置(60)の下表面の間に通路開口(62)が形成されること
を特徴とする、化学的処理又は電解処理のための装置(1)。
IPC (4件)：
C25D 17/00 ( 200 6.01)
, C25D 21/00 ( 200 6.01)
, C25F 7/00 ( 200 6.01)
, C23C 22/73 ( 200 6.01)
C25D 17/00 G
, C25D 21/00 D
, C25F 7/00 R
, C23C 22/73 A
