特許

J-GLOBAL ID：201603008584787025

空間選択的な複屈折低減を有するフィルムを使用するマスク加工

発明者： ウィリアム ワード メリル ,  ダグラス エス.ダン
出願人/特許権者： スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー
代理人 (5件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  高橋 正俊 ,  出野 知
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-068116
公開番号（公開出願番号）：特開2016-136278
出願日： 2016年03月30日
公開日（公表日）： 2016年07月28日
要約：

【課題】パターン化されたフィルムを作製する方法を提供する。【解決手段】あるパターン化可能な反射フィルムをマスクとして使用し、他のパターン化物品を作製し、1つ以上の初期のマスクを使用して、パターン化可能な反射フィルムをパターン化することができる。例示的なパターン化可能な反射フィルムは、放射光線への曝露時に、第1反射特性を異なる第2反射特性に変更するのに十分な量、フィルムの一部分を吸収的に加熱するのに好適な吸収特性を有する。第1反射特性から第2反射特性への変更は、パターン化フィルムの1つ以上の層又は材料の複屈折の変更に起因する。関連する物品では、マスクが、このようなパターン化可能な反射フィルムに取り付けられる。マスクは、不透明部分及び光透過性部分を有してもよい。更に、マスクは、集束要素及び/又はプリズム要素等の構造を有する光透過性部分を有してもよい。【選択図】図1A

請求項（抜粋）：

パターン化されたフィルムを作製する方法であって、 第1反射特性を有する第1フィルムを提供する工程であって、前記第1フィルムがまた、第1放射光線への曝露時に、複屈折の変更によって前記第1反射特性を第2反射特性に変更するのに十分な量で前記第1フィルムの一部分を吸収的に加熱するのに好適な第1吸収特性も有する、工程と、 第2放射光線への曝露時に、異なる第2検出可能特性に変更する第1検出可能特性を有する、第2フィルムを提供する工程と、 前記第1フィルムをパターン化されたマスクに変換するように、前記第1放射光線を、前記第1フィルムの第1ゾーンではなく第2ゾーンに優先的に方向付けて、複屈折の変更によって、前記第1反射特性を前記第2ゾーン内の前記第2反射特性に変更する工程と、 前記パターン化されたマスクを使用して、前記第2放射光線をパターン化し、前記第2フィルムの選択された部分において、前記第1検出可能特性を前記第2検出可能特性に変更するために、前記第2フィルムに前記パターン化された第2放射光線を方向付ける工程と、 を含む、方法。

IPC (6件)：

G02B 5/30 ,  G02B 5/08 ,  B42D 25/21 ,  B42D 25/36 ,  B42D 25/45 ,  B42D 25/435

FI (7件)：

G02B5/30 ,  G02B5/08 C ,  G02B5/08 A ,  B42D15/10 210 ,  B42D15/10 360 ,  B42D15/10 450 ,  B42D15/10 435

Fターム (25件)：

2C005HB01 ,  2C005HB09 ,  2C005HB10 ,  2C005JB09 ,  2C005LB07 ,  2H042DA01 ,  2H042DA08 ,  2H042DA11 ,  2H042DA14 ,  2H042DA21 ,  2H042DB07 ,  2H042DB08 ,  2H042DC01 ,  2H042DC08 ,  2H149AA01 ,  2H149AA28 ,  2H149AB00 ,  2H149DA01 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DB24 ,  2H149DB27 ,  2H149FA12Y ,  2H149FC08 ,  2H149FD10

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 光導波路の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-184186   出願人：日立電線株式会社, 日本板硝子株式会社, 平尾一之
• 液晶表示装置用基板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-037519   出願人：富士フイルム株式会社
• 偽造防止機能付シート及びその製造方法、物品、認証カード、バーコードラベル、及び認証システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-337473   出願人：日東電工株式会社