特許
J-GLOBAL ID：201603008920793810

インプリント装置、それを用いた物品の製造方法

発明者：
林 達也

林 達也 について

, 
長谷川 敬恭

長谷川 敬恭 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高岡 亮一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-092326
公開番号（公開出願番号）：特開2016-167622
出願日： 2016年05月02日
公開日（公表日）： 2016年09月15日
要約：
【課題】インプリント処理に際し、基板上に予め存在するパターンと、新たに形成される樹脂のパターンとの重ね合わせに有利なインプリント装置を提供する。【解決手段】型を用いて基板10の基板側パターン領域上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置1であって、インプリント材を硬化させる第1波長の光とは異なる第2波長の光を基板10に向けて照射して、基板側パターン領域を加熱する加熱機構6と、加熱機構6を制御する制御部7と、を有し、加熱機構6と制御部7とを用いて、照度分布のある第2波長の光の照射によって基板側パターン領域に不均一な温度分布を形成させ、基板側パターン領域を目標形状に近づける。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
型を用いて基板の基板側パターン領域上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、 前記インプリント材を硬化させる第1波長の光とは異なる第2波長の光を前記基板に向けて照射して、前記基板側パターン領域を加熱する加熱機構と、 前記加熱機構を制御する制御部と、を有し、 前記加熱機構と前記制御部とを用いて、照度分布のある前記第2波長の光の照射によって前記基板側パターン領域に不均一な温度分布を形成させ、前記基板側パターン領域を目標形状に近づけることを特徴とするインプリント装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02
FI (2件)：
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z
Fターム (14件)：
4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AJ06 ,  4F209AR06 ,  4F209AR11 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA31
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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