特許
J-GLOBAL ID：201603009349231172
基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びインプリントモールドの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-199752
公開番号（公開出願番号）：特開2016-072415
出願日： 2014年09月30日
公開日（公表日）： 2016年05月09日
要約：
【課題】転写装置の固定治具に固定し、転写対象物にモールドパターンを精度良く転写することができるインプリントモールドの製造に好適な基板の製造方法を提供する。【解決手段】2つの主表面を備える基板の一方の主表面における台座構造形成領域上にエッチングマスク膜を形成し、基板の他方の主表面における凹部形成領域と同一或いは小さい領域に支持具の基板支持部を当接させて基板を支持した状態で、エッチング液中に基板を浸漬させてウェットエッチングを行い、台座構造形成領域に台座構造を形成し、台座構造が形成された基板の凹部形成領域に凹部を形成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
2つの主表面を備える基板を準備する工程と、
基板の一方の前記主表面における台座構造形成領域上に、エッチング液に対して前記基板との間でエッチング選択性を有するエッチングマスク膜を形成する工程と、
基板の他方の前記主表面における凹部形成領域内で当該凹部形成領域と同一或いはこれよりも小さい領域に、前記基板を支持するための支持具の基板支持部を当接させて前記エッチングマスク膜が形成された基板を支持した状態で、前記エッチング液中に前記基板を浸漬させて前記基板のウェットエッチングを行い、前記台座構造形成領域に台座構造を形成する工程と、
前記台座構造が形成された基板から前記支持具を取り外し、基板の前記凹部形成領域に凹部を形成する工程と
を有することを特徴とする基板の製造方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B29C 59/02
, G11B 5/84
H01L21/30 502D
, B29C59/02 B
, G11B5/84 Z
4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209PQ11
, 5D112AA02
, 5D112AA05
, 5D112AA17
, 5D112AA24
, 5D112BA10
, 5D112GA00
, 5D112GA20
, 5D112GA26
, 5F146AA32
