特許
J-GLOBAL ID:201603009804879615

金属充填量が少ない酸化的脱水素化用貴金属触媒

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 平木 祐輔 ,  藤田 節 ,  新井 栄一 ,  田中 夏夫 ,  菊田 尚子 ,  藤井 愛 ,  岩崎 正路
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-506805
特許番号:特許第6023790号
出願日: 2012年03月13日
請求項(抜粋):
【請求項1】オレフィン性不飽和アルコールの酸化的脱水素化のための、触媒を製造する方法であって、以下のステップ a) DCプラズマを生成するステップと、 b) 貴金属及び担体材料をプラズマに導入するステップと、 c) プラズマ中で貴金属及び担体材料を蒸発させるか、又は貴金属及び担体材料の固体を「粉砕」して、粒子を反応させるステップと、 d) 冷却して、複合材料の0.5〜100μmの粒子を得るステップと、 e) 複合材料を実際の触媒担体に適用するステップと を含む方法。
IPC (5件):
B01J 37/34 ( 200 6.01) ,  B01J 23/50 ( 200 6.01) ,  C07C 45/38 ( 200 6.01) ,  C07C 47/21 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)
FI (5件):
B01J 37/34 ,  B01J 23/50 Z ,  C07C 45/38 ,  C07C 47/21 ,  C07B 61/00 300
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (5件)
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