特許
J-GLOBAL ID：201603009981937676
レーザ生成プラズマ極端紫外線光源のターゲット
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-500295
公開番号（公開出願番号）：特表2016-512382
出願日： 2014年02月18日
公開日（公表日）： 2016年04月25日
要約：
EUV光を生成する技術は、修正小滴を形成するためにターゲット材料小滴に向かって第1放射パルスを誘導するステップであって、第1放射パルスが、ターゲット材料小滴の形状を変形させるのに十分なエネルギーを有する、誘導するステップと、吸収材料を形成するために、修正小滴に向かって第2放射パルスを誘導するステップであって、第2放射パルスが、修正小滴の特性を変化させるのに十分なエネルギーを有し、特性が放射の吸収に関係する、誘導するステップと、吸収材料に向かって増幅光ビームを誘導するステップであって、増幅光ビームが、吸収材料の少なくとも一部を極端紫外線(EUV)光へと変換するのに十分なエネルギーを有する、誘導するステップと、を含む。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
EUV光を生成する方法であって、
修正小滴を形成するためにターゲット材料小滴に向かって第1放射パルスを誘導するステップであって、前記第1放射パルスが、前記ターゲット材料小滴の形状を変形させるのに十分なエネルギーを有する、誘導するステップと、
吸収材料を形成するために前記修正小滴に向かって第2放射パルスを誘導するステップであって、前記第2放射パルスが、前記修正小滴の特性を変化させるのに十分なエネルギーを有し、前記特性が放射の吸収に関連する、誘導するステップと、
前記吸収材料に向かって増幅光ビームを誘導するステップであって、前記増幅光ビームが、前記吸収材料の少なくとも一部を極端紫外線(EUV)光へと変換するのに十分なエネルギーを有する、誘導するステップと、を含む方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05G2/00 K
, G03F7/20 503
2H197BA04
, 2H197CA10
, 2H197FA01
, 2H197GA01
, 2H197GA05
, 2H197GA12
, 2H197GA20
, 2H197GA24
, 4C092AA06
, 4C092AA15
, 4C092AB21
, 4C092AC09
, 4C092BD05
