特許
J-GLOBAL ID：201603010166415663

温度応答性細胞塊作製方法

発明者：
丸山 厚

丸山 厚 について

, 
嶋田 直彦

嶋田 直彦 について


出願人/特許権者：
国立大学法人東京工業大学

国立大学法人東京工業大学 について


代理人 (7件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  福本 積 ,  古賀 哲次 ,  渡辺 陽一 ,  中島 勝 ,  武居 良太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-228156
公開番号（公開出願番号）：特開2016-086782
出願日： 2014年11月10日
公開日（公表日）： 2016年05月23日
要約：
【課題】再生医療等の細胞培養で細胞塊の作製方法の提供。【解決手段】細胞を細胞培養プレートに播種前又は播種後に、式で示される高温融解型高分子を添加し、培養温度を変化させる細胞塊の作製方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
細胞塊を作製する方法であって、下記: (a)下記式(I):
IPC (1件)：
C12N 5/07
FI (1件)：
C12N5/00 202
Fターム (7件)：
4B065AA90X ,  4B065AA93X ,  4B065BD26 ,  4B065BD28 ,  4B065BD29 ,  4B065BD32 ,  4B065CA44
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 複合殺鼠剤
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-274382   出願人：ナトロセルテクノロジーズリミテッド
  • 細胞培養材料
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-028233   出願人：クラレメディカル株式会社
  • 細胞培養担体と、細胞培養方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-172178   出願人：新技術事業団
引用文献：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM