特許
J-GLOBAL ID:201603010216123065
メタン化触媒
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (3件):
寺本 光生
, 志賀 正武
, 高橋 久典
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-505438
公開番号(公開出願番号):特表2016-515470
出願日: 2014年03月28日
公開日(公表日): 2016年05月30日
要約:
本発明は、メタン化反応を触媒するための、多孔質シリカマトリックスに分散されたニッケル粒子を含有する触媒の使用に関する。また、少なくとも一酸化炭素及び水素といったガスを含有する原料を触媒に接触させる工程を備える、原料のメタン化方法も開示する。
請求項(抜粋):
メタン化反応の触媒に使用する際、多孔質シリカマトリックスに分散されるニッケル粒子を備える触媒。
IPC (4件):
B01J 23/755
, B01J 35/10
, C07C 9/04
, C07C 1/04
FI (4件):
B01J23/755 M
, B01J35/10 301G
, C07C9/04
, C07C1/04
Fターム (42件):
4G169AA03
, 4G169AA12
, 4G169BA02A
, 4G169BA02B
, 4G169BC68A
, 4G169BC68B
, 4G169CC22
, 4G169DA06
, 4G169EA02Y
, 4G169EB18X
, 4G169EC03X
, 4G169EC04X
, 4G169EC13X
, 4G169EC14X
, 4G169EC15X
, 4G169EC16X
, 4G169EC22X
, 4G169ED07
, 4G169FA02
, 4G169FB08
, 4G169FB23
, 4G169FB30
, 4G169FB44
, 4G169FC08
, 4H006AA02
, 4H006AC29
, 4H006BA21
, 4H006BA55
, 4H006BA56
, 4H006BA81
, 4H006BB61
, 4H006BB62
, 4H006BC10
, 4H006BC11
, 4H006BC13
, 4H006BC18
, 4H006BC31
, 4H006BC37
, 4H006BD10
, 4H006BD81
, 4H006BE20
, 4H006BE40
引用特許:
引用文献:
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