特許
J-GLOBAL ID：201603010563044337
基板処理装置、及び、搬送装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
福岡 昌浩
, 阿仁屋 節雄
, 油井 透
, 清野 仁
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-547228
特許番号：特許第5853291号
出願日： 2012年11月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 銅-インジウム、銅-ガリウム、又は、銅-インジウム-ガリウムのいずれか一つからなる積層膜が形成された複数のガラス基板を収納する処理室と、
前記処理室を構成するように形成される反応管と、
前記処理室内に搬入自在に構成され、前記複数のガラス基板を互いの主面が所定の間隔を保ってそれぞれ対向するよう配列させると共に、配列させた前記複数のガラス基板のうち両端のガラス基板の外側の主面をそれぞれ覆う一対の側壁が設けられるカセットと、
前記処理室内にセレン元素含有ガス又は硫黄元素含有ガスを導入するガス供給管と、
前記処理室内の雰囲気を排気する排気管と、
前記反応管を囲うように設けられた加熱部と、
前記ガラス基板の長辺方向に沿って設置され、前記複数のガラス基板の各主面において、前記複数のガラス基板の短辺に沿った方向に前記処理室内の雰囲気を強制対流させるファンと、を具備し、
前記カセットの下部は、棒状部材が梯子状に複数設けられた構成であり、
前記カセットの前記一対の側壁の外側面には、外側に突出した短冊状のつば部がそれぞれ設けられている基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 31/18 ( 200 6.01)
, H01L 31/0749 ( 201 2.01)
, H01L 21/365 ( 200 6.01)
H01L 31/04 420
, H01L 31/06 460
, H01L 21/365
