特許

J-GLOBAL ID：201603010638144944

膜形成材料および膜形成方法

発明者： 笹川 慶太 ,  徐 永華 ,  平木 忠明 ,  三橋 智
出願人/特許権者： 株式会社トリケミカル研究所
代理人 (3件)： 前島 大吾 ,  宇高 克己 ,  薄葉 健司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-163365
公開番号（公開出願番号）：特開2016-037654
出願日： 2014年08月11日
公開日（公表日）： 2016年03月22日
要約：

【課題】熱安定性、および長期保存安定性の高い成膜材料であって、特に常温で液体又は融点が低く、安定性に富み、原料の安定供給が行え、高品質な膜を安定して形成できる成膜材料の提供。【解決手段】LM(OR)3で表される化合物であらわされる成膜材料。[Lは、シクロペンタジエニル基または置換シクロペンタジエニル基である。Mは、Ti,Zr又はHfである。Rは、アルキル基である。全てのRは同一でも異なっていても良い。]【選択図】図1

請求項（抜粋）：

膜形成材料であって、 下記の一般式[I]で表される化合物である ことを特徴とする膜形成材料。 一般式[I] LM(OR)3 [Lは、シクロペンタジエニル基または置換シクロペンタジエニル基である。Mは、Ti,Zr又はHfである。Rは、アルキル基である。全てのRは同一でも異なっていても良い。]

IPC (2件)：

C23C 16/40 ,  H01L 21/316

FI (2件)：

C23C16/40 ,  H01L21/316 X

Fターム (20件)：

4H006AA03 ,  4H006AB78 ,  4H049VN06 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ35 ,  4H049VR21 ,  4H049VR53 ,  4H049VU24 ,  4K030AA11 ,  4K030BA10 ,  4K030BA22 ,  4K030BA42 ,  4K030BA46 ,  4K030FA10 ,  5F058BC03 ,  5F058BD05 ,  5F058BF06 ,  5F058BF27 ,  5F058BF29 ,  5F058BF37