特許

J-GLOBAL ID：201603010895213752

光学活性含フッ素アミン化合物及びその製造方法

発明者： 矢島 知子 ,  佐野 杏奈 ,  香川 巧
出願人/特許権者： 国立大学法人お茶の水女子大学 ,  東ソ-・エフテック株式会社
代理人 (1件)： 長門 侃二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-014539
公開番号（公開出願番号）：特開2016-138069
出願日： 2015年01月28日
公開日（公表日）： 2016年08月04日
要約：

【課題】医農薬中間体及び電子材料中間体として有用な光学活性含フッ素アミン化合物の効率的な製造方法の提供。【解決手段】水素源及びラジカル開始剤存在下、α位に不斉置換基を有するアクリル酸エステルに、R2Iで示されるアルキルヨージドを反応させる、下式(3)で表わされるトリフルオロメチル基含有光学活性カルボン酸エチル-アミン化合物又はその鏡像体の製造方法。[R1はC1〜4の直鎖又は分岐のアルキル基;R2はC1〜10の直鎖、分岐若しくは環式のアルキル基又はベンジル基]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)

IPC (1件)：

C07C 313/06

FI (1件)：

C07C313/06

Fターム (10件)：

4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB01 ,  4H006AB20 ,  4H006AB78 ,  4H006AB84 ,  4H006AC21 ,  4H006AC61 ,  4H006AC81 ,  4H006BA93

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 光学活性含フッ素β-アミノ酸誘導体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-023773   出願人：東ソ-・エフテック株式会社
• 光学活性含フッ素β-アミノ酸誘導体及びその製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-253604   出願人：国立大学法人名古屋工業大学, 東ソ-・エフテック株式会社

引用文献：

審査官引用 (4件)

• Org. Lett., 2005, Vol.7, No.8, 1453-1456
• Synlett, 2001, 9, 1467-1469
• Nickel Boride
• F3TBSIへの立体選択的ラジカル付加反応の開発