特許
J-GLOBAL ID：201603011017101016

亜硝酸生成装置

発明者：
村山 博子

村山 博子 について

, 
大山 達史

大山 達史 について


出願人/特許権者：
パナソニックIPマネジメント株式会社

パナソニックIPマネジメント株式会社 について


代理人 (3件)： 新居 広守 ,  寺谷 英作 ,  道坂 伸一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-151176
公開番号（公開出願番号）：特開2016-037442
出願日： 2015年07月30日
公開日（公表日）： 2016年03月22日
要約：
【課題】高濃度の亜硝酸を効率良く生成する。【解決手段】本開示の一態様に係る亜硝酸生成装置1は、内部空間を備えた処理槽70と、内部空間に酸素及び窒素を含む気体を供給し、内部空間内の液体80中に気泡21を形成させる気体供給装置20と、第1電極110と、第2電極120と、第1電極110と第2電極120との間に電圧を印加する電源部140と、を含み、気泡21内にプラズマ22を生成させることにより内部空間内の液体80中に少なくとも一酸化窒素及び二酸化窒素を含む窒素酸化物を発生させるプラズマ生成装置10と、処理槽70に接続され、処理槽70から導かれた窒素酸化物及び液体80を通過させることにより、窒素酸化物を液体80に溶け込ませる気液接触部材40と、気液接触部材40を通過する窒素酸化物及び液体80を冷却する冷却装置30と、を備える亜硝酸生成装置である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
内部空間を備えた処理槽と、 前記内部空間に酸素及び窒素を含む気体を供給し、前記内部空間内の液体中に気泡を形成させる気体供給装置と、 第1電極と、第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に電圧を印加する電源と、を含み、前記気泡内にプラズマを生成させることにより前記内部空間内の前記液体中に少なくとも一酸化窒素及び二酸化窒素を含む窒素酸化物を発生させるプラズマ生成装置と、 前記処理槽に接続され、前記処理槽から導かれた前記窒素酸化物及び前記液体を通過させることにより、前記窒素酸化物を前記液体に溶け込ませる気液接触部材と、 前記気液接触部材を通過する前記窒素酸化物及び前記液体を冷却する冷却装置と、 を備える亜硝酸生成装置。
IPC (3件)：
C01B 21/50 ,  B01F 1/00 ,  H05H 1/24
FI (3件)：
C01B21/50 Z ,  B01F1/00 A ,  H05H1/24
Fターム (26件)：
2G084AA19 ,  2G084BB03 ,  2G084BB21 ,  2G084BB23 ,  2G084CC03 ,  2G084CC08 ,  2G084CC34 ,  2G084CC35 ,  2G084DD12 ,  2G084DD14 ,  2G084DD17 ,  2G084DD22 ,  2G084DD23 ,  2G084DD25 ,  2G084DD63 ,  2G084DD66 ,  2G084DD68 ,  2G084FF01 ,  2G084FF19 ,  2G084FF33 ,  2G084FF38 ,  2G084FF39 ,  2G084HH54 ,  4G035AA01 ,  4G035AE13 ,  4G035AE15
引用特許：
審査官引用 (4件)
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