特許
J-GLOBAL ID：201603011199586567
中空粒子の製造方法、反射防止膜の製造方法及び光学素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
阿部 琢磨
, 黒岩 創吾
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-161544
公開番号（公開出願番号）：特開2014-019626
特許番号：特許第5943754号
出願日： 2012年07月20日
公開日（公表日）： 2014年02月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 コア粒子を含む水分散液と、マグネシウムを含む水溶液と、フッ素を含む水溶液とを10°C以上30°C以下で混合し、その後、50°C以上80°C以下で加熱して、前記コア粒子の周囲にフッ化マグネシウムから構成されたシェルを形成したコア・シェル粒子を得る工程と、
前記コア・シェル粒子から、前記コア粒子の少なくとも一部を除去する工程を有することを特徴とする中空粒子の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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