特許

J-GLOBAL ID：201603011223560566

銅スラグの処理方法

発明者： 内田 修司 ,  羽切 正英 ,  小島 悠人
出願人/特許権者： 独立行政法人国立高等専門学校機構
代理人 (1件)： 特許業務法人創成国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-037696
公開番号（公開出願番号）：特開2016-160110
出願日： 2015年02月27日
公開日（公表日）： 2016年09月05日
要約：

【課題】銅スラグに新たな用途を与える銅スラグの処理方法を提供する。【解決手段】銅精鉱1を、融剤2及び酸素富化空気3と共に溶鉱炉、反射炉、電気炉、自熔炉からなる群から選択される1種の炉により処理して銅精鉱1よりも銅含有量が富化されたマット5を製造する溶錬工程4で、亜硫酸ガス6と共に得られる銅スラグ7の処理方法であって、銅スラグ7を塩化物イオン水溶液17及び硫酸13で処理して塩化鉄(II)19及びシリカゲル18を生成させることを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

銅精鉱を、融剤及び酸素富化空気と共に溶鉱炉、反射炉、電気炉、自熔炉からなる群から選択される1種の炉により処理して該銅精鉱よりも銅含有量が富化されたマットを製造する溶錬工程で、亜硫酸ガスと共に得られる銅スラグの処理方法であって、 該銅スラグを塩化物イオンを含む水溶液及び硫酸で処理して塩化鉄(II)及びシリカゲルを生成させることを特徴とする銅スラグの処理方法。

IPC (10件)：

C04B 5/00 ,  C22B 9/10 ,  C22B 15/00 ,  C22B 15/02 ,  C22B 15/04 ,  C02F 1/62 ,  B01D 21/01 ,  C02F 1/52 ,  C01G 49/10 ,  C01B 33/152

FI (10件)：

C04B5/00 C ,  C22B9/10 101 ,  C22B15/00 102 ,  C22B15/02 ,  C22B15/04 ,  C02F1/62 Z ,  B01D21/01 102 ,  C02F1/52 K ,  C01G49/10 ,  C01B33/152 Z

Fターム (39件)：

4D015BA03 ,  4D015BA19 ,  4D015BB05 ,  4D015CA17 ,  4D015DA13 ,  4D015DC02 ,  4D015EA32 ,  4D038AA08 ,  4D038AB70 ,  4D038AB82 ,  4G048AA06 ,  4G048AB02 ,  4G048AB08 ,  4G048AC08 ,  4G048AE02 ,  4G072AA28 ,  4G072CC10 ,  4G072GG03 ,  4G072HH24 ,  4G072HH40 ,  4G072JJ15 ,  4G072JJ28 ,  4G072KK07 ,  4G072SS02 ,  4G072SS14 ,  4G072UU30 ,  4G112JD02 ,  4G112JE02 ,  4K001AA09 ,  4K001BA03 ,  4K001BA06 ,  4K001CA02 ,  4K001DA03 ,  4K001GA02 ,  4K001GA03 ,  4K001GA04 ,  4K001GA13 ,  4K001JA01 ,  4K001KA13