特許

J-GLOBAL ID：201603011260567805

溶射用Mo粉末およびそれを用いたMo溶射膜並びにMo溶射膜部品

発明者： 青 山 斉 ,  森 岡 勉 ,  友 清 憲 治 ,  奥 畑 孝 浩 ,  山 口 悟 ,  中 野 佳 代 ,  佐 藤 英 樹
出願人/特許権者： 株式会社東芝 ,  東芝マテリアル株式会社
代理人 (2件)： 勝沼 宏仁 ,  浅野 真理
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-539707
特許番号：特許第5890843号
出願日： 2012年10月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 一次粒子の平均粒径が1μm以上、10μm以下、二次粒子の平均粒径が20μm以上、200μm以下である溶射用Mo粉末において、アスペクト比1.0〜1.5を有する二次粒子が含まれる割合が、80質量%以上、100質量%以下であり、 単位面積1000μm×1000μmのSEM写真において、面積比(長径5μm以下の粒子の合計面積比/5μmを超える粒子の合計面積比)が0〜5%であり、 前記二次粒子の密度が1.0〜3.0g/cm3であり、 前記二次粒子の断面は、Mo粉末および/または第二成分粉末が連なっている構造を有することを特徴とする、溶射用Mo粉末。

IPC (4件)：

C23C 4/08 ( 201 6.01) ,  C23C 4/10 ( 201 6.01) ,  B22F 1/00 ( 200 6.01) ,  C22C 27/04 ( 200 6.01)

FI (4件)：

C23C 4/08 ,  C23C 4/10 ,  B22F 1/00 P ,  C22C 27/04 102

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭58-113369
  
• 溶射用粉末及びそれを用いた溶射皮膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-097038   出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
• 特開平4-231450
  

引用文献：

審査官引用 (1件)

• JIS使い方シリーズ 溶射技術マニュアル, 19981030, 第1版 第1刷, p.32-33