特許

J-GLOBAL ID：201603011297399759

可撓性基板へのグラフェン転写方法

発明者： カリタ ゴラップ ,  種村 眞幸
出願人/特許権者： 国立大学法人 名古屋工業大学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-010454
公開番号（公開出願番号）：特開2016-132610
出願日： 2015年01月22日
公開日（公表日）： 2016年07月25日
要約：

【課題】有機溶媒を使用することなく、可撓性基板へのグラフェン転写プロセスにおいて、簡単、かつ効果的な転写方法を提供する。【解決手段】金属基板14上にCVD法によりグラフェン膜を形成した後、この金属基板14を可撓性基板16上に低温ホットプレス法により固着させた後、金属基板を除去し、さらに金属残渣を溶剤により除去した後、乾燥させることを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

金属基板上にCVD法によりグラフェン膜を形成した後、 この金属基板を可撓性基板上に低温ホットプレス法により固着させた後、 金属基板を除去し、さらに金属残渣を溶剤により除去した後、 乾燥させる ことを特徴とする可撓性基板へのグラフェン転写方法。

IPC (3件)：

C01B 31/02 ,  C23C 16/01 ,  C23C 16/26

FI (3件)：

C01B31/02 101Z ,  C23C16/01 ,  C23C16/26

Fターム (27件)：

4G146AA01 ,  4G146AB07 ,  4G146AC16B ,  4G146AC20B ,  4G146AD08 ,  4G146AD22 ,  4G146BA11 ,  4G146BA31 ,  4G146BC09 ,  4G146BC23 ,  4G146BC25 ,  4G146BC26 ,  4G146BC34B ,  4G146BC43 ,  4G146CB03 ,  4G146CB11 ,  4G146CB12 ,  4G146CB15 ,  4G146CB34 ,  4G146CB37 ,  4K030AA09 ,  4K030AA16 ,  4K030AA17 ,  4K030BA27 ,  4K030CA02 ,  4K030DA08 ,  4K030FA10