特許
J-GLOBAL ID:201603011774365721

像加熱装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高梨 幸雄
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-279049
公開番号(公開出願番号):特開2014-123019
特許番号:特許第5991756号
出願日: 2012年12月21日
公開日(公表日): 2014年07月03日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板と、前記基板の長手方向に沿って形成された発熱抵抗体層と、を有する加熱体と、前記加熱体を支持する加熱体支持部材と、前記加熱体支持部材で支持した前記加熱体と接触しつつ回転する筒状の加熱回転体と、前記加熱回転体を介して前記加熱体とニップ部を形成する加圧部材とを有し、前記ニップ部で画像を担持した記録材を搬送しつつ加熱する像加熱装置において、 前記加熱体は、前記発熱抵抗体層が形成された発熱領域と、前記発熱抵抗体層の形成されていない非発熱領域と、を前記基板の長手方向に連続して有しており、 前記加熱体支持部材は、前記加熱体を支持するための加熱体支持面部と、前記加熱体支持面部の前記基板の長手方向と直交する短手方向の両側で前記加熱回転体の回転軌道を保持する回転軌道保持部と、を有し、 前記加熱体支持面部と、前記回転軌道保持部は、それぞれ、前記発熱領域に相当する発熱領域部と、前記非発熱領域に相当する非発熱領域部と、を前記基板の長手方向に有し、 前記加熱体支持面部は前記回転軌道保持部の前記発熱領域部と前記非発熱領域部の間で連続であり、前記回転軌道保持部は前記加熱体支持面部の前記発熱領域部のみに対応して配設されていることを特徴とする像加熱装置。
IPC (2件):
G03G 15/20 ( 200 6.01) ,  H05B 3/00 ( 200 6.01)
FI (2件):
G03G 15/20 510 ,  H05B 3/00 335

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